[發(fā)明專利]一種適于接觸式光刻機的曝光裝置

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• 申請日: 2021-04-25
• 公開（公告）號: CN113176712A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設計）人: 張俊杰
• 申請（專利權）人: 上海圖雙精密裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海海貝律師事務所 31301
• 代理人: 宋振宇

1.一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，包括基片(8)以及設置在基片(8)一側的軌道(1)，其特征在于：所述軌道(1)的上方設有安裝座(2)，所述安裝座(2)與軌道(1)之間設有行走結構(6)，所述安裝座(2)的上方轉動安裝有連接架(4)，所述連接架(4)靠近基片(8)的一側安裝有曝光遮擋主體(7)，所述曝光遮擋主體(7)上開設有曝光孔(71)，所述曝光遮擋主體(7)上安裝有用以調整曝光孔(71)大小的調節(jié)結構。

2.根據權利要求1所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述行走結構(6)包括轉動安裝在安裝座(2)下表面四個拐角處的齒輪、開設在軌道(1)上表面與齒輪對應的滑槽、安裝在滑槽下底面的齒條以及安裝在安裝座(2)上用以驅動行走結構(6)轉動的馬達，所述齒輪與齒條嚙合。

3.根據權利要求1所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述安裝座(2)的上表面中部嵌入電機(3)，電機(3)的動力輸出端與連接架(4)遠離曝光遮擋主體(7)當一端固接。

4.根據權利要求1所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述連接架(4)靠近曝光遮擋主體(7)的一側下方安裝有斜撐桿(5)，斜撐桿(5)的另一端安裝有滑塊，所述安裝座(2)的圓周外部與滑塊對應的位置設有導向槽，滑塊能夠在導向槽的內部滑動。

5.根據權利要求1所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述調節(jié)結構包括設置在曝光孔(71)一側可轉動的X軸絲桿(9)，X軸絲桿(9)上螺紋連接有與X軸絲桿(9)垂直的安裝架(13)，安裝架(13)靠近曝光孔(71)的一側固接有第二遮擋板(12)。

6.根據權利要求5所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述曝光遮擋主體(7)的一側安裝有X軸驅動結構(15)，X軸驅動結構(15)驅動X軸絲桿(9)正反轉動。

7.根據權利要求4所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述安裝架(13)上轉動安裝有Y軸絲桿(10)，Y軸絲桿(10)上螺紋連接有螺母(14)，螺母(14)靠近曝光孔(71)的一側固接有第一遮擋板(11)。

8.根據權利要求7所述的一種適于接觸式光刻機的曝光裝置，其特征在于：所述安裝架(13)上安裝有Y軸驅動結構(16)，Y軸驅動結構(16)驅動Y軸絲桿(10)正反轉動。