[發(fā)明專利]一種脈沖離子源鍍膜引出裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110446190.X | 申請日: | 2021-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN113186504B | 公開(公告)日: | 2022-07-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭春剛;程國安;鄭瑞廷 | 申請(專利權(quán))人: | 北京師范大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/46 | 分類號: | C23C14/46 |
| 代理公司: | 北京佳信天和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11939 | 代理人: | 田英楠 |
| 地址: | 100875 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 脈沖 離子源 鍍膜 引出 裝置 | ||
本發(fā)明涉及一種脈沖離子源鍍膜引出裝置,包括脈沖電極,陰極靶材和陽極;陽極包括外筒體和內(nèi)部的陽極環(huán);陰極靶材與外筒體之間導(dǎo)通;所述陽極環(huán)與外筒體之間設(shè)置有絕緣材料;陰極靶材為柱狀,插入外筒體內(nèi),并位于外筒體中的陽極環(huán)上方;陰極靶材中心線穿過陽極環(huán)的中心孔;陰極靶材與驅(qū)動電機(jī)傳動連接,驅(qū)動陰極靶材向陽極環(huán)進(jìn)給;陰極靶材的離子發(fā)射端外側(cè)套設(shè)有脈沖電極,并且陰極靶材的裸露端伸出脈沖電極,陰極靶材與脈沖電極之間設(shè)置有絕緣套;陽極環(huán)連接電源的正極,陰極靶材連接電源的負(fù)極或接地,脈沖電極連接脈沖電源。本發(fā)明離子源引出的離子束可以持續(xù)不斷,引出的離子束質(zhì)量提高,分布均勻。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及離子束鍍膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種脈沖離子源鍍膜引出裝置。
背景技術(shù)
脈沖離子源在離子束鍍膜技術(shù)中得到廣泛應(yīng)用,目前的脈沖離子源一般采用的技術(shù)是在薄膜制備時(shí)采用直徑較小的圓棒陰極靶材,在厚膜制備采用直徑較大的圓棒陰極靶材。這種方式在鍍膜過程中,隨著靶材的消耗,陰極靶材的表面,周圍的結(jié)構(gòu)會發(fā)生變化,引出的離子源束流也會發(fā)生變化,這樣會造成離子源束流的不穩(wěn)定,同時(shí)隨著消耗的加劇,陰極靶材向后縮,脈沖電源引出離子源的條件發(fā)生了很大變化,到一定程度后,必然導(dǎo)致離子源無法引出。而引出陽極現(xiàn)有的結(jié)構(gòu)一般是采用一個(gè)圓筒作為陽極,通過這種方式可以使引出的束斑盡可能大。但是這種結(jié)構(gòu)引出的束斑相當(dāng)分散,束斑束流的分布不均勻。
此外,現(xiàn)有的引出陽極一般采用一個(gè)圓筒作為陽極,通過這種方式可以使引出的束斑盡可能大,但是這種結(jié)構(gòu)引出的束斑因?yàn)闆]有聚焦,而束流本身又都帶電,彼此相斥,所以束斑相當(dāng)分散,且束斑束流分布為泊松分布,并不均勻。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決上述問題,本發(fā)明提供了一種脈沖離子源鍍膜引出裝置,通過電機(jī)根據(jù)陰極靶材的消耗向前推進(jìn)陰極靶材,使得引出離子源需要的條件基本保持不變,這樣引出的離子源束流能夠保持穩(wěn)定,不至于因?yàn)殛帢O靶材的消耗導(dǎo)致無法引出離子源,極大延長了離子源引出離子的時(shí)長,提高了離子源引出的束流質(zhì)量;通過在陽極圓筒內(nèi)設(shè)置帶有引出孔的圓盤,提高離子束束斑均勻性,進(jìn)而保證了鍍膜的質(zhì)量。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的:
一種脈沖離子源鍍膜引出裝置,包括脈沖電極,陰極靶材和陽極;
所述陽極包括外筒體和內(nèi)部的陽極環(huán);所述陽極環(huán)與外筒體之間設(shè)置有絕緣材料;
所述陰極靶材與外筒體之間導(dǎo)通;所述陰極靶材為柱狀,插入外筒體內(nèi),并位于所述外筒體中的陽極環(huán)上方;所述陰極靶材中心線穿過陽極環(huán)的中心孔;
所述陰極靶材與驅(qū)動電機(jī)傳動連接,驅(qū)動所述陰極靶材向陽極環(huán)進(jìn)給;
所述陰極靶材的離子發(fā)射端外側(cè)套設(shè)有脈沖電極,并且陰極靶材的裸露端伸出所述脈沖電極,所述陰極靶材與脈沖電極之間設(shè)置有絕緣套;
所述陽極環(huán)連接電源的正極,陰極靶材連接電源的負(fù)極或接地,所述脈沖電極連接脈沖電源。
本發(fā)明通過電動機(jī)的就能夠向前推進(jìn)陰極靶材,通過這個(gè)辦法,靶材消耗后,樣品向前移動,維持靶材表面同周圍的結(jié)構(gòu)大致保持不變,脈沖源引出離子源需要的條件大致保持不變,這樣引出的離子源束流就能夠保持穩(wěn)定,不至于因?yàn)殛帢O靶材的消耗導(dǎo)致無法引出離子源,這樣就大大延長了離子源引出離子的時(shí)間,提高了離子源引出的束流質(zhì)量;
陽極環(huán)安裝在陽極筒體內(nèi),中心孔對離子束有聚焦作用,通過安裝大小不同的陽極環(huán),來調(diào)節(jié)離子束的聚焦,最后得到需要的離子束束斑大小。
脈沖電極連接脈沖電源,通過脈沖不斷激發(fā)靶材電極釋放離子。
本發(fā)明一種優(yōu)選的實(shí)施方式,還包括控制器,所述控制器與驅(qū)動電機(jī)和靶盤的束流分析儀電連接,所述驅(qū)動電機(jī)的進(jìn)給速度其中i為靶盤上測得的離子束流,陰極靶材的密度為ρ,陰極靶材的原子量為M,陰極靶材的反應(yīng)表面面積為S,步進(jìn)速度為v,陰極靶材的平均電荷態(tài)Qa。
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C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





