[發(fā)明專利]化學(xué)機(jī)械研磨裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110444448.2 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113118964A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 謝振峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B37/00 | 分類號(hào): | B24B37/00;B24B37/005;B24B37/34;B24B57/02;B24B57/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 朱穎;黃健 |
| 地址: | 230011 安徽省合肥*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 化學(xué) 機(jī)械 研磨 裝置 | ||
本發(fā)明實(shí)施例屬于半導(dǎo)體制作設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置。本發(fā)明實(shí)施例旨在解決相關(guān)技術(shù)中采用人工添加試劑費(fèi)時(shí)費(fèi)力的問(wèn)題。供應(yīng)裝置包括用于承裝研磨液的暫存桶、以及與暫存桶連接的測(cè)量裝置,測(cè)量裝置用于檢測(cè)暫存桶內(nèi)剩余研磨液的量;研磨機(jī)臺(tái)與暫存桶連通;添加裝置包括儲(chǔ)存裝置以及驅(qū)動(dòng)裝置,驅(qū)動(dòng)裝置與儲(chǔ)存裝置和暫存桶連通,控制裝置與驅(qū)動(dòng)裝置和測(cè)量裝置連接;控制裝置用于在預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),根據(jù)暫存桶內(nèi)剩余研磨液的量和預(yù)定規(guī)則控制驅(qū)動(dòng)裝置將儲(chǔ)存裝置內(nèi)對(duì)應(yīng)體積的添加試劑輸送至?xí)捍嫱皟?nèi),以使得暫存桶內(nèi)的添加試劑濃度維持在設(shè)定值,與采用人工添加試劑相比,簡(jiǎn)化了操作過(guò)程,節(jié)省人工。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明實(shí)施例涉及半導(dǎo)體制作設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置。
背景技術(shù)
半導(dǎo)體器件的制作中往往會(huì)采用化學(xué)機(jī)械研磨工藝(CMP),對(duì)晶圓或者其他的結(jié)構(gòu)進(jìn)行平坦化處理。具體來(lái)說(shuō),在化學(xué)機(jī)械研磨工藝中,需要在硅晶圓上添加研磨液,使研磨液與硅晶圓發(fā)生化學(xué)反應(yīng),進(jìn)而使得硅晶圓表面的硬度和強(qiáng)度降低,然后利用機(jī)械力將表面層磨去。其中,雙氧水是研磨液中的一種重要添加試劑,由于雙氧水容易發(fā)生氧化分解反應(yīng),在生產(chǎn)過(guò)程中,需要添加雙氧水以確保研磨液中雙氧水的濃度維持穩(wěn)定。
相關(guān)技術(shù)中,化學(xué)機(jī)械研磨裝置包括研磨液供應(yīng)裝置和研磨機(jī)臺(tái),研磨液供應(yīng)裝置包括承裝有研磨液的暫存桶,暫存桶與研磨機(jī)臺(tái)連通,當(dāng)研磨機(jī)臺(tái)需要研磨液時(shí),研磨機(jī)臺(tái)會(huì)抽取暫存桶內(nèi)的研磨液。在使用一段時(shí)間后,暫存桶內(nèi)的雙氧水濃度降低;此時(shí)操作人員,手動(dòng)接取雙氧水,并將雙氧水添加至?xí)捍嫱皟?nèi),以維持暫存桶內(nèi)的雙氧水濃度。然而,操作人員手動(dòng)接取、并添加雙氧水,操作較為復(fù)雜,費(fèi)時(shí)費(fèi)力。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明實(shí)施例提供一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置,用以解決相關(guān)技術(shù)中人工添加雙氧水費(fèi)時(shí)費(fèi)力的問(wèn)題。
一種化學(xué)機(jī)械研磨裝置,包括:控制裝置、研磨機(jī)臺(tái)、供應(yīng)裝置和添加裝置,所述供應(yīng)裝置包括用于承裝研磨液的暫存桶、以及與所述暫存桶連接的測(cè)量裝置,所述測(cè)量裝置用于檢測(cè)所述暫存桶內(nèi)剩余研磨液的量;所述研磨機(jī)臺(tái)與所述暫存桶連通;
所述添加裝置包括儲(chǔ)存裝置以及驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述儲(chǔ)存裝置和所述暫存桶連通,所述控制裝置與所述驅(qū)動(dòng)裝置和所述測(cè)量裝置連接;所述控制裝置用于在預(yù)設(shè)時(shí)間時(shí),根據(jù)所述暫存桶內(nèi)剩余研磨液的量和預(yù)定規(guī)則控制所述驅(qū)動(dòng)裝置將所述儲(chǔ)存裝置內(nèi)對(duì)應(yīng)體積的添加試劑輸送至所述暫存桶內(nèi),以使得所述暫存桶內(nèi)的所述添加試劑濃度維持在設(shè)定值。
在一種可實(shí)現(xiàn)方式中,所述添加裝置還包括車體,所述儲(chǔ)存裝置和所述驅(qū)動(dòng)裝置均設(shè)置在所述車體上。
在一種可實(shí)現(xiàn)方式中,所述車體的底部間隔的設(shè)置有多個(gè)滾輪,各所述滾輪與所述車體之間可轉(zhuǎn)動(dòng)的連接。
在一種可實(shí)現(xiàn)方式中,所述儲(chǔ)存裝置上設(shè)置有與其連通的添加管路,所述添加管路還用于與試劑源連通,用于向所述儲(chǔ)存裝置內(nèi)注入所述添加試劑。
在一種可實(shí)現(xiàn)方式中,所述測(cè)量裝置包括設(shè)置在所述暫存桶底部的承重裝置,所述承重裝置用于檢測(cè)所述暫存桶的質(zhì)量。
在一種可實(shí)現(xiàn)方式中,還包括計(jì)時(shí)裝置和報(bào)警裝置,所述計(jì)時(shí)裝置與所述驅(qū)動(dòng)裝置和所述控制裝置電連接,所述報(bào)警裝置與所述控制裝置電連接,所述計(jì)時(shí)裝置用于采集所述驅(qū)動(dòng)裝置的工作時(shí)間,
所述控制裝置還用于根據(jù)所述計(jì)時(shí)裝置控制所述驅(qū)動(dòng)裝置啟停;
當(dāng)所述稱重裝置采集到暫存桶添加的添加試劑重量大于或者小于第一預(yù)設(shè)范圍時(shí),所述控制裝置用于控制所述報(bào)警裝置啟動(dòng),所述控制裝置還用于控制所述驅(qū)動(dòng)裝置停止工作;
當(dāng)所述計(jì)時(shí)裝置采集到所述驅(qū)動(dòng)裝置的工作時(shí)間大于或者小于第二預(yù)設(shè)范圍時(shí),所述控制裝置用于控制所述報(bào)警裝置啟動(dòng),所述控制裝置還用于控制所述驅(qū)動(dòng)裝置停止工作。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司,未經(jīng)長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110444448.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 基礎(chǔ)化學(xué)數(shù)字化學(xué)習(xí)中心
- 化學(xué)處理方法和化學(xué)處理裝置
- 化學(xué)清洗方法以及化學(xué)清洗裝置
- 化學(xué)強(qiáng)化組合物、化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)天平(無(wú)機(jī)化學(xué))
- 電化學(xué)裝置的化學(xué)配方
- 化學(xué)強(qiáng)化方法、化學(xué)強(qiáng)化裝置和化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)強(qiáng)化方法及化學(xué)強(qiáng)化玻璃
- 化學(xué)打尖方法和化學(xué)組合物





