[發明專利]用于穩定釩化合物的方法和設備在審
| 申請號: | 202110440688.5 | 申請日: | 2021-04-23 |
| 公開(公告)號: | CN113549893A | 公開(公告)日: | 2021-10-26 |
| 發明(設計)人: | C.德澤拉;E.J.希羅 | 申請(專利權)人: | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/18 | 分類號: | C23C16/18;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
| 地址: | 荷蘭阿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 穩定 化合物 方法 設備 | ||
1.一種穩定溶液中的釩化合物的方法,所述方法包括將有效量的一種或多種穩定劑加入到所述溶液中。
2.根據權利要求1所述的方法,其中所述釩化合物包括釩鹵化物。
3.根據權利要求2所述的方法,其中所述釩鹵化物包括釩氯化物。
4.根據權利要求1所述的方法,其中所述一種或多種穩定劑包括有機分子,所述有機分子包括氮、氧、硫和/或氧雜原子中的一者或多者。
5.根據權利要求1所述的方法,其中所述一種或多種穩定劑包括加和物形成化合物。
6.根據權利要求1所述的方法,其中所述一種或多種穩定劑包括質子惰性化合物。
7.根據權利要求1所述的方法,其中所述一種或多種穩定劑包括含有帶孤對電子的一種或多種雜原子的化合物。
8.根據權利要求1-7中任一項所述的方法,其中所述一種或多種穩定劑中的至少一種選自由以下各項構成的組:式為NR3的叔胺,其中全部-R基團獨立地是C1-C20烷基或C1-C20芳香基團;式為PR3的叔膦,其中全部-R基團獨立地是C1-C20烷基或C1-C20芳香基團;式為OR2的醚,其中全部-R基團獨立地是C1-C20烷基或C1-C20芳香基團;式為SR2的二烷基硫化物、二芳基硫化物、或混合的烷基/芳基硫化物,其中全部-R基團獨立地是C1-C20烷基或C1-C20芳香基團;芳香雜環胺,諸如吡啶、噠嗪、嘧啶、吡嗪或1,2,4-三嗪和其烷基或芳基取代版本;質子惰性非芳香雜環胺,諸如N-烷基哌啶、N、N'-二烷基哌嗪、N-烷基吡咯烷、N-烷基吡咯、N-烷基吡咯啉、N,N'-二烷基咪唑烷和類似化合物,其中烷基可以是C1-C20烴基;雜環醚,諸如呋喃、四氫呋喃、吡喃、四氫吡喃、1,4-二惡烷、1,4-二惡英和類似化合物、以及其烷基或芳基取代版本;雜環硫醚,諸如噻吩、四氫噻吩、噻唑、硫化環戊烷、硫吡喃、二噻烷和類似化合物、以及其常見烷基或芳基取代版本。
9.根據權利要求1-7中任一項所述的方法,其中以所述溶液中存在的所述釩化合物的量的0.001mol-%至300mol-%的量或0.1mol-%至100mol-%的量添加所述一種或多種穩定劑。
10.一種組合物,所述組合物包括釩化合物和有效量的一種或多種穩定劑。
11.根據權利要求10所述的組合物,其中所述釩化合物包括釩鹵化物。
12.根據權利要求10或11所述的組合物,其中所述組合物在常溫常壓下為液體。
13.根據權利要求10或11所述的組合物,其中所述一種或多種穩定劑包括有機分子,所述有機分子包括氮、氧、硫和/或氧雜原子中的一者或多者。
14.根據權利要求10或11所述的組合物,其中所述一種或多種穩定劑包括加和物形成化合物。
15.根據權利要求10或11所述的組合物,其中所述一種或多種穩定劑包括質子惰性化合物。
16.根據權利要求10或11所述的組合物,其中所述一種或多種穩定劑包括含有帶孤對電子的一種或多種雜原子的化合物。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





