[發明專利]用于穩定釩化合物的方法和設備

在審

• 申請號: 202110440688.5
• 申請日: 2021-04-23
• 公開（公告）號: CN113549893A
• 公開（公告）日: 2021-10-26
• 發明（設計）人: C.德澤拉;E.J.希羅
• 申請（專利權）人: ASMIP私人控股有限公司
• 主分類號: C23C16/18
• 分類號: C23C16/18;C23C16/455
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 焦玉恒

公開了穩定溶液中的釩化合物的方法，包含釩化合物和穩定劑的組合物，包含該組合物的設備，使用該組合物的系統，以及使用該組合物、設備和系統的方法。穩定劑的使用允許使用期望的前驅體，而減輕前驅體的不希望的分解。

技術領域

本公開總體上涉及適于氣相反應器系統的方法和設備。更特別地，本公開涉及可以用于穩定氣相反應器系統中的前驅體的方法、化合物和設備。

背景技術

前驅體是可以用于形成另一材料的化合物。例如，前驅體可以被用于氣相反應中以形成薄膜或材料的層。不幸的是，可能具有符合期望的性質(諸如在常壓和常溫下符合期望的蒸氣壓，和/或期望的反應性(例如，與表面或另一化合物的反應性))的一些前驅體可能熱分解為其他化合物。特別地，一些前驅體可能分解以產生腐蝕性氣體，腐蝕性氣體可能腐蝕反應器系統的零件和/或導致處理期間的不期望的蝕刻。分解可能縮短前驅體的保質期、使制造復雜化、要求附加提純步驟、導致儲存和/或運輸問題，并且可能限制源容器內可用于在反應器系統內的反應的期望的材料的量。另外，反應器系統零件的腐蝕可能縮短反應器系統和/或其零件的壽命，并且因此提高操作這樣的設備的成本。另外，腐蝕可能導致在沉積的膜內加入反應器系統蝕刻產物和/或導致襯底上的膜的蝕刻，這進而可能導致這樣的膜質量的下降和/或不均勻性。另外，因為前驅體分解的速率通常隨溫度增大，所以妨礙了通過加熱前驅體而增大去往反應腔室的前驅體的通量的能力。

降低前驅體的分解的努力已經導致生產膜的前驅體具有不符合期望地高的碳含量，可能要求不期望的高溫以獲得期望的通量速率，可能導致當期望原子層沉積(ALD)時材料的化學氣相沉積(CVD)，可能缺乏生長速率的期望的控制，和/或可能展現相對差的臺階覆蓋。因此，期望用于提供用于氣相反應的前驅體的改善的方法、設備和組合物。

本節中提出的任何討論，包含對問題和解決方案的討論，僅出于提供本公開的上下文的目的而被包括在本公開中。這樣的討論不應被視為承認任何或所有信息在做出發明時是已知的，或者以其他方式構成了現有技術。

發明內容

本發明內容以簡化形式介紹了一些概念，這可以在下面進一步詳細描述。該發明內容并非旨在必然地標識所要求保護的主題的關鍵特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保護的主題的范圍。

本公開的各種實施例涉及穩定溶液(solution)中的釩化合物的方法，包含釩化合物和穩定劑的組合物，包含該組合物的設備，使用該組合物的系統，以及使用該組合物、設備和系統的方法。