[發明專利]一種檢測TFT清洗線MURA的方法

在審

• 申請號: 202110430833.1
• 申請日: 2021-04-21
• 公開（公告）號: CN113281923A
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 曾純;徐陽;李偉界
• 申請（專利權）人: 信利（惠州）智能顯示有限公司
• 主分類號: G02F1/13
• 分類號: G02F1/13
• 代理公司: 廣州市華學知識產權代理有限公司 44245
• 代理人: 唐超

本發明涉及一種檢測TFT清洗線MURA的方法，包括如下步驟：S1、使用水蒸氣噴頭向完成清洗流程的玻璃基板表面噴水蒸氣，所述水蒸氣噴頭所噴出的水蒸氣覆蓋所述玻璃基板的表面；S2、使用能發出綠色光的鈉燈作為唯一光源，使用所述鈉燈照射所述玻璃基板的表面，檢查所述玻璃基板的表面是否存在光散射部分。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種檢測TFT清洗線MURA的方法。

背景技術

目前，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)大部分為背光型液晶顯示器，背光型液晶顯示器包括液晶顯示面板及背光模組(backlight module)。液晶顯示面板的工作原理是在兩片平行的玻璃基板當中放置液晶分子，兩片玻璃基板中間有許多垂直和水平的細小電線，通過控制通電從而控制液晶分子偏轉，將背光模組的光線折射出來產生畫面。

液晶顯示面板由彩膜(CF，Color Filter)基板、薄膜晶體管(TFT，Thin FilmTransistor)基板、夾于彩膜基板與薄膜晶體管基板之間的液晶(LC，Liquid Crystal)及密封膠框(Sealant)組成。在TFT基板的生產過程包括化學氣相沉積(CVD)、微影(Photo)、蝕刻(Etch)、濺鍍(Sputter)等，每一道制程步驟都存在潛在性的污染源，可導致缺陷(Defect)的生成。污染源包括粒子(Particles)、無機物金屬離子(Metal Ions)、有機物雜質(Organic Impurity)、原生氧化薄膜(Native Oxide)和水痕(Water Mark)等，因此玻璃基板的清洗是TFT基板的生產制程中重復使用頻率最高的步驟，在每一道制程步驟之前都必須將玻璃基板表面清洗干凈，以去除污染物。

玻璃基板的清洗流程中通常包括使用水溶液進行清洗的制程以及在水溶液清洗之后使用干燥裝置將玻璃基板吹干的制程，由于玻璃基板的清洗流程中不會在玻璃基板上增加膜層，因此清洗流程中對玻璃基板造成的影響無法通過人眼觀察檢測到，若玻璃基板在清洗流程中受到損害或污染，會在玻璃基板上留下肉眼不可見的MURA或其它不良。例如，在清洗流程中，玻璃基板在水溶液清洗過程中因為清洗方式不當導致未徹底清除玻璃基板上的殘留藥液，未清洗掉的藥液殘留在玻璃基板上對玻璃基板造成損傷和污染，該玻璃基板形成的顯示面板在顯示畫面時極易出現水漬狀的亮斑即白MURA，從而降低了顯示效果。又例如，在清洗流程中，玻璃基板在水溶液清洗之后的干燥過程中，由于玻璃基板為水平放置，玻璃基板上殘留的清洗水由于受到毛細力的作用，總是趨向于形成彎月狀的水塊附著在玻璃基板表面，水塊的兩側容易回流從而在玻璃基板表面形成水漬，造成清洗不良的情況，該玻璃基板形成的顯示面板在顯示畫面時極易出現條狀MURA。

因此，需要定期對清洗玻璃基板的清洗線進行檢測，防止玻璃基板在清洗流程中受到損害或污染，現有的檢測技術方案為：使用白玻璃基板，在白玻璃基板表面濺射鋁膜層，然后再經過清洗線的所有清洗流程，最后通過人眼觀察檢測MURA缺陷。但該技術方案存在的技術問題是：完成檢測的白玻璃基板要進行報廢處理，因此每檢測一次都要消耗白玻璃基板和鋁靶材。

發明內容

針對現有技術中存在的技術問題，本發明提供一種檢測TFT清洗線MURA的方法，本發明提供的檢測辦法可以替代現有的檢測清洗線的技術方案。

為實現上述目的，本發明使用如下技術方案：一種檢測TFT清洗線MURA的方法，包括如下步驟：

步驟1，提供一玻璃基板，玻璃基板進入清洗線，首先清洗線上的清洗裝置使用水溶液對玻璃基板進行清洗，使用水溶液清洗玻璃基板的目的是去除基板上的污染物；

步驟2，玻璃基板完成水溶液清洗后，清洗線上的干燥裝置對玻璃基板上殘留的清洗水進行清除和干燥；

步驟3，使用水蒸氣噴頭向干燥后的玻璃基板的表面噴出的水蒸氣，水蒸氣噴頭所噴出的水蒸氣覆蓋玻璃基板的表面；

步驟4，使用能發出綠色光的鈉燈作為唯一光源，使用該鈉燈照射玻璃基板的表面；