[發明專利]一種彩膜基板及其制作方法和顯示面板

有效

• 申請號: 202110429466.3
• 申請日: 2021-04-21
• 公開（公告）號: CN113219702B
• 公開（公告）日: 2022-06-07
• 發明（設計）人: 王杰;鄧福林;唐榕;王立苗;張建英;康報虹
• 申請（專利權）人: 惠科股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1335
• 代理公司: 深圳市百瑞專利商標事務所(普通合伙) 44240
• 代理人: 邢濤

1.一種彩膜基板，其特征在于，包括：

襯底，包括顯示區和非顯示區，所述非顯示區環繞所述顯示區設置；

黑矩陣層，設置在所述襯底上，且至少包括位于所述非顯示區內的第一黑矩陣層；以及

凹槽，設置在所述第一黑矩陣層中，且環繞所述顯示區設置；

其中，所述凹槽在所述第一黑矩陣層的厚度方向上貫穿所述第一黑矩陣層，且所述凹槽的寬度在10-360nm之間。

2.如權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽的寬度在300-360nm之間。

3.如權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽的寬度在10-40nm之間。

4.如權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽與所述顯示區之間的距離在0.01-0.2mm之間。

5.如權利要求2-3任意一項所述的彩膜基板，其特征在于，所述凹槽的數量有多個，間隔均勻地設置在所述第一黑矩陣層中。

6.一種彩膜基板的制作方法，用于制作如權利要求1-5任意一項所述的彩膜基板，其特征在于，包括步驟：

在襯底上的非顯示區中形成第一黑矩陣層；以及

在所述第一黑矩陣層中形成環繞顯示區設置的凹槽；

其中，所述凹槽在所述第一黑矩陣層的厚度方向上貫穿所述第一黑矩陣層，且所述凹槽的寬度在10-360nm之間。

7.如權利要求6所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述在所述第一黑矩陣層中形成環繞顯示區設置的凹槽的步驟包括：使用納米級壓印技術在所述第一黑矩陣層中形成寬度在10-360nm之間的凹槽。

8.如權利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，使用納米級壓印技術在所述第一黑矩陣層中形成寬度在10-360nm之間的凹槽的步驟包括：

在襯底上涂布未固化的黑矩陣材料；

使用納米壓印模板與涂有未固化黑矩陣材料的襯底表面接觸；

在15-25s內將黑矩陣材料升溫至140-160℃維持15-20s，使黑矩陣材料與壓印模板充分接觸填充；以及

在25-35s內將黑矩陣材料降溫至95-115℃使黑矩陣材料固化55-65s后脫模，形成寬度在10-360nm之間的凹槽。

9.如權利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述納米壓印模板包括多個環形凸臺，相鄰所述環形凸臺之間的間距相等，所述環形凸臺的寬度在10-360nm之間。

10.一種顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1-5任意項所述的彩膜基板以及與所述彩膜基板相對設置的陣列基板。