[發明專利]噴嘴單元、液處理裝置以及液處理方法

在審

• 申請號: 202110429187.7
• 申請日: 2021-04-21
• 公開（公告）號: CN113560059A
• 公開（公告）日: 2021-10-29
• 發明（設計）人: 三浦拓也;田中公一朗;高橋彰吾;宮窪祐允;吉原健太郎
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: B05B7/00
• 分類號: B05B7/00;B05B13/02;B05D3/04;G03F7/16;G03F7/30
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種噴嘴單元，其是對基板施加使用了溶液的液處理的液處理裝置用的噴嘴單元，其特征在于，

該噴嘴單元包括氣體噴嘴，該氣體噴嘴具有：噴出流路，其供氣體流通；以及噴出口，其將在所述噴出流路流動的所述氣體朝向所述基板的表面噴出，

所述噴出口形成為在沿著所述表面的第1方向上延伸，

所述噴出流路的所述第1方向上的寬度隨著靠近所述噴出口而變大，以使來自所述噴出口的所述氣體呈放射狀噴出。

2.根據權利要求1所述的噴嘴單元，其特征在于，

所述氣體噴嘴構成為，所述噴出口中的所述第1方向上的兩端部各自在從所述第1方向觀察時可見。

3.根據權利要求2所述的噴嘴單元，其特征在于，

所述噴出口的包含開口緣的面的所述第1方向上的中央部分朝向所述表面突出。

4.根據權利要求1所述的噴嘴單元，其特征在于，

該噴嘴單元還包括：

第2氣體噴嘴，其具有第2噴出口，該第2噴出口朝向所述表面噴出第2氣體；以及

驅動部，其沿著所述表面使所述氣體噴嘴和所述第2氣體噴嘴一起移動。

5.根據權利要求4所述的噴嘴單元，其特征在于，

自所述噴出口噴出的所述氣體的流速小于自所述第2噴出口噴出的所述第2氣體的流速。

6.根據權利要求4所述的噴嘴單元，其特征在于，

該噴嘴單元還包括處理液噴嘴，該處理液噴嘴具有第3噴出口，該第3噴出口朝向所述表面噴出處理液，

所述驅動部使所述氣體噴嘴、所述第2氣體噴嘴以及所述處理液噴嘴一起移動。

7.根據權利要求6所述的噴嘴單元，其特征在于，

在與所述第1方向正交且沿著所述表面的第2方向上，所述氣體噴嘴和所述處理液噴嘴配置于互不相同的位置，

所述氣體噴嘴和所述處理液噴嘴構成為，來自所述氣體噴嘴的所述氣體在所述表面處的到達位置與來自所述處理液噴嘴的所述處理液在所述表面處的到達位置之間的所述第2方向上的距離小于所述噴出口與所述第3噴出口之間的所述第2方向上的距離。

8.根據權利要求7所述的噴嘴單元，其特征在于，

在所述第2方向上，所述第2氣體噴嘴和所述處理液噴嘴配置于互不相同的位置，

所述第2氣體噴嘴和所述處理液噴嘴構成為，從所述第1方向觀察時，來自所述處理液噴嘴的所述處理液的噴出方向相對于所述表面的傾斜小于來自所述第2氣體噴嘴的所述第2氣體的噴出方向相對于所述表面的傾斜。

9.根據權利要求7或8所述的噴嘴單元，其特征在于，

在所述第2方向上，所述氣體噴嘴、所述第2氣體噴嘴以及所述處理液噴嘴按所述氣體噴嘴、所述第2氣體噴嘴、所述處理液噴嘴的順序配置。

10.一種液處理裝置，其特征在于，

該液處理裝置包括：

權利要求1～8中任一項所述的噴嘴單元；

基板保持單元，其保持所述表面朝向上方的狀態下的所述基板并使其旋轉；以及

控制單元，其控制所述噴嘴單元和所述基板保持單元，

所述控制單元通過在利用所述基板保持單元使所述基板旋轉的狀態下，在所述表面以所述氣體的到達區域所延伸的方向與所述基板的旋轉方向交叉的方式使所述氣體噴嘴噴出所述氣體，從而利用該氣體噴嘴向所述表面中的包含中央部的區域供給所述氣體。

11.一種液處理方法，其特征在于，

一邊維持處理液滯留于基板上的狀態，一邊對滯留于所述基板上的所述處理液的上表面中的至少比周緣部靠內側的區域以相比于向所述基板的周向而向半徑方向擴散的方式自所述處理液的上方供給氣體。