[發(fā)明專利]一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液及制備方法和實(shí)時(shí)凈化系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110426939.4
• 申請(qǐng)日: 2021-04-20
• 公開（公告）號(hào): CN113355673A
• 公開（公告）日: 2021-09-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐帥;張紅偉;李闖;胡天齊;錢鐵民
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇和達(dá)電子科技有限公司;四川和晟達(dá)電子科技有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/18
• 分類號(hào): C23F1/18;C23F1/26;C23F1/08;C23F1/46
• 代理公司: 上海微策知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31333
• 代理人: 湯俊明

本發(fā)明公開了一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液，包括主劑和輔劑。主劑原料包含以下質(zhì)量百分比：過氧化物1～20％，氟源0.01～0.5％，無機(jī)酸0.1～10％，胺化物1～30％，穩(wěn)定劑0.01～1％，氮唑類化合物0.01～0.5％，水余量。輔劑原料包含以下質(zhì)量百分比：氟源0.1～5％，無機(jī)酸1～15％，胺化物10～40％，氮唑類化合物0.1～5％，水余量。本發(fā)明申請(qǐng)制備的金屬蝕刻液不含有磷元素，氟離子含量低，具有良好的環(huán)境友好性，且能夠在銅、鈦等金屬的刻蝕過程中具有良好的刻蝕形貌和較高的金屬離子負(fù)載能力，能同時(shí)滿足超高精細(xì)和中小尺寸的顯示產(chǎn)品的蝕刻要求。本發(fā)明還提供了一種蝕刻液的實(shí)時(shí)凈化系統(tǒng)，能夠?qū)崟r(shí)的實(shí)時(shí)凈化蝕刻液廢液進(jìn)行實(shí)時(shí)凈化再利用，有效提高了蝕刻液的利用效率，適宜在蝕刻液領(lǐng)域推廣，具有廣闊的發(fā)展前景。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及蝕刻液領(lǐng)域，尤其涉及一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液及其制備方法和實(shí)時(shí)凈化系統(tǒng)。

背景技術(shù)

金屬蝕刻是一種通過采用濕法蝕刻和干法蝕刻兩種方法對(duì)金屬材料進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)或者物理摩擦等方式進(jìn)行表面金屬移除的技術(shù)。通常，金屬蝕刻也可以被稱為光化學(xué)金屬蝕刻，曝光制板、顯影后，將需要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在金屬接觸到蝕刻液時(shí)，通過蝕刻液的化學(xué)反應(yīng)等作用達(dá)到對(duì)金屬表面的溶解腐蝕作用，從而能夠形成凹凸或者鏤空成型的效果。

銅蝕刻液作為一種較為常見的金屬蝕刻液，通常被用于TFT-LCD顯示面板導(dǎo)線蝕刻，蝕刻速度快。但現(xiàn)如今，一些現(xiàn)有技術(shù)中的銅蝕刻液含有較高的氟離子濃度和含有磷元素，廢液容易產(chǎn)生較嚴(yán)重的環(huán)境污染，且定量藥液可腐蝕的基板數(shù)量較少，使用量大且操作繁瑣。

例如，現(xiàn)有技術(shù)(CN201810329296.X)中，提出了一種用于銅鉬膜層的金屬蝕刻液，聲稱具用無機(jī)酸代替了氟離子，能夠在蝕刻過程中不傷及玻璃基板，具有銅/鉬鈮膜層具有良好的蝕刻作用。但是，此發(fā)明中加入的磷酸等物質(zhì)，廢液依然會(huì)對(duì)環(huán)境污染帶來較大的壓力，且不采用氟離子的銅蝕刻液，并不適合含鈦等其他金屬膜層的刻蝕，在蝕刻液的應(yīng)用領(lǐng)域中顯現(xiàn)出較差的適應(yīng)能力。

因此，研發(fā)一種在具有良好的金屬蝕刻能力的同時(shí)，且環(huán)境污染原料含量少，能夠同時(shí)適應(yīng)疊層金屬刻蝕的金屬刻蝕液是一項(xiàng)十分有意義的工作。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明第一方面提供了一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液，包括主劑和輔劑。

作為一種優(yōu)選的方案，所述主劑原料包含以下質(zhì)量百分比：過氧化物1～20％，氟源0.01～0.5％，無機(jī)酸0.1～10％，胺化物1～30％，穩(wěn)定劑0.01～1％，氮唑類化合物0.01～0.5％，水余量。

作為一種優(yōu)選的方案，所述輔劑原料包含以下質(zhì)量百分比：氟源0.1～5％，無機(jī)酸1～15％，胺化物10～40％，氮唑類化合物0.1～5％，水余量。

作為一種優(yōu)選的方案，所述過氧化物為過氧化氫。

作為一種優(yōu)選的方案，所述氟源為氫氟酸、氟化氨、氟化氫銨中的至少一種。

作為一種優(yōu)選的方案，所述無機(jī)酸為硝酸、硫酸、鹽酸中的至少一種。

作為一種優(yōu)選的方案，所述主劑中所述氟源與氮唑類化合物的質(zhì)量比為2～7：1。

作為一種優(yōu)選的方案，所述輔劑與主劑的用量比為0.4～0.5wt％/每500ppm金屬離子濃度。

本發(fā)明第二方面提供了一種上述銅、鈦疊層金屬蝕刻液的制備方法：將主劑和輔劑所需原料放置進(jìn)攪拌器中，攪拌50～100分鐘，攪拌溫度為30～45℃，攪拌完成后既得所述蝕刻液的主劑和輔劑。

本發(fā)明第三方面提供了一種上述銅、鈦疊層金屬蝕刻液的實(shí)時(shí)凈化系統(tǒng)：所述實(shí)時(shí)凈化系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)包括：儲(chǔ)液罐1，輸送泵2，樹脂柱3，輸送管道4，閥門5，法蘭6；所述儲(chǔ)液罐1，輸送泵2，樹脂柱3閥門5，法蘭6通過輸送管道4機(jī)械連接。

有益效果：