[發明專利]一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液及制備方法和實時凈化系統在審
| 申請號： | 202110426939.4 | 申請日： | 2021-04-20 |
| 公開（公告）號： | CN113355673A | 公開（公告）日： | 2021-09-07 |
| 發明（設計）人： | 徐帥;張紅偉;李闖;胡天齊;錢鐵民 | 申請（專利權）人： | 江蘇和達電子科技有限公司;四川和晟達電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/18 | 分類號： | C23F1/18;C23F1/26;C23F1/08;C23F1/46 |
| 代理公司： | 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙) 31333 | 代理人： | 湯俊明 |
| 地址： | 212000 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 鈦疊層 金屬 蝕刻 制備 方法 實時 凈化系統 | ||
1.一種銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：包括主劑和輔劑。
2.根據權利要求1所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述主劑原料包含以下質量百分比：過氧化物1～20％，氟源0.01～0.5％，無機酸0.1～10％，胺化物1～30％，穩定劑0.01～1％，氮唑類化合物0.01～0.5％，水余量。
3.根據權利要求1所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述輔劑原料包含以下質量百分比：氟源0.1～5％，無機酸1～15％，胺化物10～40％，氮唑類化合物0.1～5％，水余量。
4.根據權利要求2或3所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述過氧化物為過氧化氫。
5.根據權利要求2或3所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述氟源為氫氟酸、氟化氨、氟化氫銨中的至少一種。
6.根據權利要求2或3所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述無機酸為硝酸、硫酸、鹽酸中的至少一種。
7.根據權利要求2所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述主劑中所述氟源與氮唑類化合物的質量比為2～7：1。
8.根據權利要求1所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液，其特征在于：所述輔劑與主劑的用量比為0.4～0.5wt％/每500ppm金屬離子濃度。
9.一種根據權利要求1～8任意一項所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液的制備方法，其特征在于：將主劑和輔劑所需原料放置進攪拌器中，攪拌50～100分鐘，攪拌溫度為30～45℃，攪拌完成后既得所述蝕刻液的主劑和輔劑。
10.一種根據權利要求1～8任意一項所述的銅、鈦疊層金屬蝕刻液的實時凈化系統，其特征在于：所述實時凈化系統的結構包括：儲液罐(1)，輸送泵(2)，樹脂柱(3)，輸送管道(4)，閥門(5)，法蘭(6)；所述儲液罐(1)，輸送泵(2)，樹脂柱(3)閥門(5)，法蘭(6)通過輸送管道(4)機械連接。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇和達電子科技有限公司;四川和晟達電子科技有限公司，未經江蘇和達電子科技有限公司;四川和晟達電子科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110426939.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
