[發明專利]一種用于化學機械拋光的CeO2

在審

• 申請號: 202110410015.5
• 申請日: 2021-04-16
• 公開（公告）號: CN113044873A
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發明（設計）人: 許寧;馬家輝;劉琦;楊舒琦
• 申請（專利權）人: 陜西科技大學
• 主分類號: C01F17/235
• 分類號: C01F17/235;C01F17/10;C09G1/02;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 西安眾和至成知識產權代理事務所(普通合伙) 61249
• 代理人: 安文龍

1.一種用于化學機械拋光的CeO₂納米顆粒的制備方法，其特征在于，具體包括以下步驟；

步驟1：將Ce(NO₃)₃·6H₂O與熔鹽體系按照摩爾比為1:(10～40)研磨混合，得到混合物；

所述的熔鹽體系采用摩爾比為1:(1～2)的烘焙溫度為600～800℃的硝酸鉀-氯化鉀、烘焙溫度為600～800℃硝酸鈉-氯化鈉、烘焙溫度為700～900℃氯化鈉-氯化鉀且中的一種或多種；

步驟2：將步驟1中的混合物倒入無水乙醇中攪拌均勻，得到混合溶液，將混合溶液倒入坩堝中，并置于干燥箱干燥得到混合鹽；所述混合溶液中混合物的濃度范圍為0.15mol/L～0.3mol/L；

步驟3：將步驟2中的混合鹽連同坩堝一起置于馬弗爐中，以5℃/min的升溫速率自室溫升溫至熔鹽體系的烘焙溫度，保溫2～4h后自然冷卻，取出反應產物經洗滌后得到白色沉淀物；

步驟4：將步驟3中得到的白色沉淀物倒入離心管并置于離心機中離心洗滌，后經干燥研磨得到CeO₂納米粉體。

2.根據權利要求1所述的一種用于化學機械拋光的CeO₂納米顆粒的制備方法，其特征在于：所述步驟2中的攪拌是采用磁力攪拌器攪拌30～60min。

3.根據權利要求1所述的一種用于化學機械拋光的CeO₂納米顆粒的制備方法，其特征在于：所述步驟2中的干燥是在50～80℃下干燥3～5h。

4.根據權利要求1所述的一種用于化學機械拋光的CeO₂納米顆粒的制備方法，其特征在于：所述步驟3中的洗滌是將反應產物置于燒杯中在磁力攪拌器上，于50～80℃下攪拌30～60min，后用去離子水洗滌3～5次。

5.根據權利要求1所述的一種用于化學機械拋光的CeO₂納米顆粒的制備方法，其特征在于：所述步驟4中離心機的轉速為5000～9000r/min，使用去離子水離心洗滌。

6.一種根據權利要求1-5任一項所述的制備方法制得的CeO₂納米顆粒，其特征在于：該納米顆粒形狀為類球形、尺寸在50～350nm范圍內分布均勻，且分散性好。