[發(fā)明專利]一種蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110407278.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113106412B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃穩(wěn);廖良生;趙平;趙鵬鵬;胡淳;高永喜;顧婉瑩;張敬娣;武啟飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇集萃有機(jī)光電技術(shù)研究所有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/56 | 分類號(hào): | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 蘇州市中南偉業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32257 | 代理人: | 李柏柏 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 蒸鍍產(chǎn)線 擋板 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),所述蒸鍍產(chǎn)線包括:
多個(gè)蒸鍍腔,所述蒸鍍腔內(nèi)設(shè)置有蒸發(fā)組件及蒸鍍通道;
流轉(zhuǎn)卡夾,所述流轉(zhuǎn)卡夾承載基片依次經(jīng)過(guò)所述蒸鍍通道上方進(jìn)行蒸鍍工作;
其特征在于,所述擋板機(jī)構(gòu)包括擋板組件,所述擋板組件對(duì)應(yīng)所述蒸鍍通道設(shè)置,所述擋板組件動(dòng)態(tài)遮擋所述蒸鍍通道形成工作通道,所述工作通道與所述基片在蒸鍍通道的暴露部分相匹配;
所述擋板組件包括第一擋板及第二擋板,所述第一擋板和所述第二擋板沿與所述基片運(yùn)動(dòng)方向相同的方向運(yùn)動(dòng)以調(diào)節(jié)所述工作通道的大小和位置,所述第一擋板和所述第二擋板沿與所述基片運(yùn)動(dòng)方向相反的方向運(yùn)動(dòng)以回到初始位置。
2.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述擋板機(jī)構(gòu)還包括用于帶動(dòng)所述第一擋板運(yùn)動(dòng)的第一驅(qū)動(dòng)組件和用于帶動(dòng)所述第二擋板運(yùn)動(dòng)的第二驅(qū)動(dòng)組件,所述第一驅(qū)動(dòng)組件包括第一電機(jī)和第一傳動(dòng)裝置,所述第二驅(qū)動(dòng)組件包括第二電機(jī)和第二傳動(dòng)裝置帶動(dòng)所述第二擋板運(yùn)動(dòng)。
3.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一擋板與所述第二擋板錯(cuò)層設(shè)置,避免相鄰擋板組件干擾。
4.如權(quán)利要求3所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述擋板機(jī)構(gòu)還包括用于導(dǎo)向所述第一擋板運(yùn)動(dòng)的第一擋板導(dǎo)向裝置和用于導(dǎo)向所述第二擋板運(yùn)動(dòng)的第二擋板導(dǎo)向裝置。
5.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述蒸鍍腔內(nèi)設(shè)置有多個(gè)所述蒸發(fā)組件及多個(gè)所述蒸鍍通道。
6.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述蒸發(fā)組件為線性蒸發(fā)源。
7.如權(quán)利要求1所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述擋板機(jī)構(gòu)還包括用于檢測(cè)所述基片位置的傳感器。
8.如權(quán)利要求7所述的蒸鍍產(chǎn)線的擋板機(jī)構(gòu),其特征在于,所述傳感器為光電開(kāi)關(guān)。
9.一種蒸鍍產(chǎn)線,包括如權(quán)利要求1-8任一項(xiàng)所述的擋板機(jī)構(gòu)。
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- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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