[發明專利]一種真空內電加熱噴淋頭結構

有效

• 申請號: 202110403470.2
• 申請日: 2021-04-14
• 公開（公告）號: CN113249687B
• 公開（公告）日: 2022-09-20
• 發明（設計）人: 劉春;談太德
• 申請（專利權）人: 拓荊科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C16/455
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 李強

本發明屬于真空鍍膜設備技術領域，具體提供了一種真空內電加熱噴淋頭結構，包括噴淋頂板，所述的噴淋頂板內設有可供介質循環的通道；所述的噴淋頂板上設有噴淋氣體入口；噴淋頂板與腔體外殼連接處設有一圈密封條；噴淋板，與噴淋頂板連接且具有凹進部，上設有多個噴淋通孔。加熱環，設置在噴淋板與噴淋頂板連接處，設置方式包括嵌入設置在噴淋板內；阻熱環，設置在加熱環與噴淋頂板之間，與噴淋頂板連接。可實現真空腔體內對噴淋板的高溫加熱，通過結構優化調整熱阻后噴淋板溫度可達到300℃，同時減少通過噴淋頂板對外部的熱損失，保障了其溫度波動≤±5℃。同時保障外部大氣側空間溫度符合生產規范。

技術領域

本發明屬于真空鍍膜設備技術領域，具體提供了一種真空內電加熱噴淋頭結構。

背景技術

真空鍍膜設備中，真空腔體內需要滿足相關鍍膜沉積的溫度工藝要求，現有技術中，該真空腔體內的溫度通過從外部熱傳導方式達到內部的溫度工藝，即大氣端熱源通過頂板間接傳熱給噴淋板，溫度不建議超高250℃，否則頂板與容器的密封圈會很快老化而無法使用無法實現密封作用，對真空腔體內的真空度有影響。但是溫度低又無法滿足真空腔體內溫度工藝，進而影響鍍膜沉積效果。另外噴淋頂板溫度過高的話不利于安全生產，容易產生事故。

發明內容

鑒于上述問題，本發明提供了一種真空內電加熱噴淋頭結構，設置在具有真空腔體的鍍膜設備上，包括，

噴淋頂板，位于大氣側內設有可供介質循環的通道；所述的噴淋頂板上設有噴淋氣體入口；

淋板，所述的噴淋板位于真空側，連接于所述的噴淋頂板且具有凹進部，所述凹進部上設有多個噴淋通孔，該凹進部罩住噴淋氣體入口形成一噴淋腔室；

加熱環，設置在噴淋板與噴淋頂板連接處，設置方式包括嵌入設置在噴淋板內或者置于噴淋板的上端面上；

阻熱環，設置在加熱環與噴淋頂板之間，連接于所述噴淋頂板。

進一步地，在所述的噴淋板上設有環形的凹槽，加熱環嵌入到凹槽內上端面與阻熱環接觸連接。

進一步地，還包括一熱輻射隔板，設置在加熱環與阻熱環之間。

進一步地，在阻熱環與噴淋板接觸處、噴淋頂板與噴淋板接觸處均設有一密封圈。

進一步地，加熱環通過在噴淋頂板外接一供電裝置對其加熱。

進一步地，所述的加熱環與阻熱環采用鎳基合金材料。

進一步地，噴淋腔室內還設有一阻流板，該阻流板上設有多個阻流通孔，噴淋氣體進入方向為順次經過氣體入口、阻流板及噴淋板。

進一步地，所述的阻流板上的阻熱氣孔直徑小于噴淋板的通氣孔。

本發明的優勢在于：可實現真空腔體內對噴淋板的高溫加熱，通過結構優化調整熱阻后噴淋板溫度可達到300℃，同時減少通過噴淋頂板對外部的熱損失，保障了其溫度波動≤±5℃。同時保障外部大氣側空間溫度符合生產規范。

附圖說明

圖1為本發明的一種實施例結構示意圖；

圖2為本發明的另一種實施例結構示意圖；

其中，噴淋頂板－1、噴淋氣體入口－2、密封條－3、噴淋板－4、噴淋腔室－5、加熱環－6、阻熱環－7、熱輻射隔板－8、密封圈－9、阻流板－10、阻熱環螺釘－11.

具體實施方式

為了使本發明的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。

參考圖1，參考圖1，本發明提供了一種真空內電加熱噴淋頭結構的具體實施方式：該噴淋頭結構設置在具有真空腔體的鍍膜設備上，包括，