[發(fā)明專利]一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110403470.2 | 申請日: | 2021-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN113249687B | 公開(公告)日: | 2022-09-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉春;談太德 | 申請(專利權(quán))人: | 拓荊科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/22 | 分類號: | C23C14/22;C23C16/455 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 李強 |
| 地址: | 110179 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空 加熱 噴淋 結(jié)構(gòu) | ||
1.一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),設(shè)置在具有真空腔體的鍍膜設(shè)備上,其特征在于:包括,
噴淋頂板,位于大氣側(cè)內(nèi)設(shè)有可供介質(zhì)循環(huán)的通道;所述的噴淋頂板上設(shè)有噴淋氣體入口;
噴淋板,所述的噴淋板位于真空側(cè),連接于所述的噴淋頂板且具有凹進部,所述凹進部上設(shè)有多個噴淋通孔,該凹進部罩住噴淋氣體入口形成一噴淋腔室;
加熱環(huán),設(shè)置在噴淋板與噴淋頂板連接處,設(shè)置方式包括嵌入設(shè)置在噴淋板內(nèi)或者置于噴淋板的上端面上;
阻熱環(huán),設(shè)置在加熱環(huán)與噴淋頂板之間,連接于所述噴淋頂板。
2.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:在噴淋板上設(shè)有環(huán)形的凹槽,加熱環(huán)嵌入到凹槽內(nèi)上端面與阻熱環(huán)接觸連接。
3.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:還包括一熱輻射隔板,設(shè)置在加熱環(huán)與阻熱環(huán)之間。
4.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:在阻熱環(huán)與噴淋板接觸處、噴淋頂板與噴淋板接觸處均設(shè)有一密封圈。
5.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:加熱環(huán)通過在噴淋頂板外接一供電裝置對其加熱。
6.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:所述的加熱環(huán)與阻熱環(huán)采用鎳基合金材料。
7.如權(quán)利要求1所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:噴淋腔室內(nèi)還設(shè)有一阻流板,該阻流板上設(shè)有多個阻流通孔,噴淋氣體進入方向為順次經(jīng)過氣體入口、阻流板及噴淋板。
8.如權(quán)利要求7所述的一種真空內(nèi)電加熱噴淋頭結(jié)構(gòu),其特征在于:阻流板上的阻熱氣孔直徑小于噴淋板的通氣孔。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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