[發明專利]具有主動式底架支撐件的光刻設備

在審

• 申請號: 202110397458.5
• 申請日: 2016-11-17
• 公開（公告）號: CN112965346A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: H·巴特勒;B·H·M·布克基馬;C·A·L·德霍恩;M·W·J·E·威吉克曼斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 閆紅

一種光刻設備包括：構造成形成光刻設備的支撐結構的底架、布置在底架與地板之間的主動式底架支撐件。該主動式底架支撐件配置成在底板上支撐底架。該主動式底架支撐件包括致動器，該致動器配置成在底架與地面之間沿水平方向施加力。該光刻設備還包括控制裝置，該控制裝置配置成驅動致動器，表示該底架上的擾動力的信號被提供至控制裝置，該控制裝置配置成使用力傳感器信號來驅動致動器。

本申請是發明名稱為“具有主動式底架支撐件的光刻設備”、申請日為2016年11月17日、申請號為201680074430.5的中國專利申請的分案申請。

相關申請的交叉引用

本申請要求于2015年12月21日提交的歐洲申請15201466.8的優先權，并且它通過引用而全文合并到本發明中。

技術領域

本發明涉及一種具有主動式底架支撐件的光刻設備。

背景技術

光刻設備是一種將所需的圖案施加到襯底上(通常施加到襯底的目標部分上)的機器。例如，可以將光刻設備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可替代地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成待形成于所述IC的單層上的電路圖案。可以將所述圖案轉移到襯底(例如，硅晶片)上的目標部分(例如，包括一部分管芯、一個或更多個管芯)上。通常將圖案成像到設置于襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進行所述圖案的轉移。通常，單個襯底將包含被連續地圖案化的相鄰目標部分的網絡。常規的光刻設備包括：所謂的步進機，在所述步進機中，通過將整個圖案一次曝光到所述目標部分上來輻射每一個目標部分；以及所謂的掃描器，在所述掃描器中，通過輻射束沿給定方向(“掃描”方向)掃描所述圖案、同時沿與所述方向平行或反向平行的方向同步地掃描所述襯底來輻射每一個目標部分。也可能通過將圖案壓印至襯底上而將圖案從圖案形成轉移至襯底。

在光刻設備中，支撐件(諸如襯底的支撐件或圖案形成裝置的支撐件)在操作期間移動，例如，以執行掃描移動。此外，設置致動器(諸如電動馬達或多個電動馬達，例如，平面馬達)。致動器可以(例如)包括在較小的移動范圍上執行準確的定位的短行程致動器與在大的移動范圍上提供定位的長行程致動器的組合。致動器相對于配重移動支撐件。由于支撐件(加上由所述支撐件保持的襯底或圖案形成裝置)的重心與配重的重心不重合，因此在配重上的反作用合力可以在配重上提供力矩。支撐件可以被定位在配重的頂部上(即，在Z方向上被間隔開)，如果由致動器的水平力(例如，x方向或y方向上的力)在配重上提供沿相對方向的反作用力以及分別圍繞x方向和/或y方向的力矩。X方向和Y方向被定義為形成垂直于Z方向的水平面。

配重由光刻設備的底架支撐，底架依次由被布置了光刻設備的建筑物的地面(例如，地板、基座等)支撐。

反向移動的振動、力矩和作用易于在支撐件的定位中引起擾動，該擾動可能引起光刻設備的重疊誤差。

在不提供配重的狀況下，支撐件的移動可以類似地在光刻設備的底架上引起擾動力。由于不存在配重的平衡效應，底架上的擾動力甚至可以是更加嚴重。

發明內容

期望的是，提供所述支撐件的準確定位。

根據本發明的實施例，提供了一種光刻設備，包括：

底架，構造成形成所述光刻設備的支撐結構，

主動式底架支撐件，配置成在地面上支撐所述底架，所述主動式底架支撐件包括致動器，所述致動器配置成在所述底架上沿水平方向施加力，

所述光刻設備還包括：

控制裝置，配置成驅動所述致動器，表示所述底架上的力的信號被提供至所述控制裝置，所述控制裝置配置成基于表示所述底架上的所述力的所述信號驅動所述致動器。

附圖說明

現在僅通過舉例的方式參考所附的示意圖來描述本發明的實施例，附圖中相應的附圖標記表示相應的部件，并且其中：