[發明專利]具有主動式底架支撐件的光刻設備

在審

• 申請號: 202110397458.5
• 申請日: 2016-11-17
• 公開（公告）號: CN112965346A
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: H·巴特勒;B·H·M·布克基馬;C·A·L·德霍恩;M·W·J·E·威吉克曼斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 閆紅

1.一種光刻設備，包括：

底架(BF)，構造成形成所述光刻設備的支撐結構，

主動式底架支撐件(ABS)，配置成將所述底架支撐在地面(GF)上，所述主動式底架支撐件包括水平壓電致動器(HBSA)和水平壓電力傳感器(HBSA)，所述水平壓電致動器配置成在所述底架上沿水平方向施加力，所述水平壓電力傳感器配置成用于測量所述底架上的水平力，

控制裝置(C)，配置成驅動所述水平壓電致動器，表示在所述底架上的力(F)的信號(FSI)被提供至所述控制裝置，所述控制裝置被配置成基于表示所述底架上的所述力的所述信號驅動所述水平壓電致動器，

其中，表示所述底架上的所述力的信號包括所述水平壓電力傳感器的水平力傳感器信號，并且其中，所述水平壓電致動器和所述水平壓電力傳感器被垂直層疊。

2.根據權利要求1所述的光刻設備，其中表示在所述底架上的所述力的所述信號還包括所述支撐件的設定點信號(SPI)，所述控制裝置包括設定點輸入，所述支撐件的所述設定點信號被提供至所述控制裝置的所述設定點輸入，所述控制裝置配置成基于所述設定點信號來驅動所述水平壓電致動器。

3.根據權利要求2所述的光刻設備，其中所述控制裝置配置成將所述支撐件的所述設定點用作前饋信號。

4.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中，所述主動式底架支撐件還包括配置為在垂直方向上對所述底架施加力的垂直壓電致動器(VBSA)和配置為測量所述底架上的垂直力的垂直壓電力傳感器(VBSS)。

5.根據權利要求4所述的光刻設備，其中，所述水平壓電力傳感器、所述垂直壓電力傳感器、所述水平壓電致動器和所述垂直壓電致動器被布置在疊層中。

6.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中所述底架設置有配置成感測所述底架的加速度的加速度計(a)，表示所述底架上的所述力的所述信號包括所述加速度計的加速度計信號(ASI)，其中所述控制裝置還包括加速度計輸入端，所述加速度計的所述加速度計信號被提供至所述加速度計輸入端，且其中所述控制裝置配置成基于所述加速度計信號來驅動所述水平壓電致動器。

7.根據權利要求6所述的光刻設備，其中所述加速度計被定位在所述主動式底架支撐件的附近的所述底架上。

8.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備，還包括處于所述光刻設備的結構或其附近的另一加速度計(FAS)，表示所述底架上的所述力的所述信號包括所述另一加速度計的輸出信號，所述控制裝置包括另一加速度計輸入端，所述另一加速度計的所述輸出信號被提供至所述控制裝置的所述另一加速度計輸入端，所述控制裝置配置成響應于所述另一加速度計的所述輸出信號來驅動所述水平壓電致動器，以便減小所述結構的共振對所述底架的效應。

9.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備，還包括布置在從所述光刻設備的移動部分至所述底架的力的路徑中的另一力傳感器(FFS)，表示所述底架上的所述力的所述信號包括另一力傳感器的輸出信號，所述控制裝置包括另一力傳感器輸入端，所述另一力傳感器的所述輸出信號被提供至所述控制裝置的所述另一力傳感器輸入端，所述控制裝置配置成響應于所述另一力傳感器的所述輸出信號來驅動所述水平壓電致動器，以便減小所述力沿所述力的路徑至所述底架的傳播的效應。

10.根據前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中所述地面由地板形成，所述光刻設備還包括布置在所述地板處的地板加速度計(GFA)，表示所述底架上的所述力的所述信號包括所述地板加速度計的輸出信號，所述控制裝置包括地板加速度計輸入端，所述地板加速度計的所述輸出信號被提供至所述控制裝置的所述地板加速度計輸入端，所述控制裝置配置成響應于所述地板加速度計的所述輸出信號來驅動所述致動器，以便減小經由所述地板傳播至所述底架的振動的傳播的效應。