[發(fā)明專利]一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110390293.9 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115207168A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-10-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周泗海;黃家容;羅騫 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建金石能源有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/20 | 分類號(hào): | H01L31/20;H01L31/0224;H01L31/05;H01L31/0747 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 362000 福建省泉州*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 異質(zhì)結(jié)疊瓦 太陽(yáng)能電池 制備 方法 | ||
1.一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于,包括:在n型硅片一面沉積薄層本征非晶硅層及n型非晶硅層,另一面沉積薄層本征非晶硅層及p型非晶硅層,并在n型非晶硅層和p型非晶硅層上沉積導(dǎo)電膜層;對(duì)n型硅片n面與p面進(jìn)行貼膜曝光處理;對(duì)n型硅片n面與p面進(jìn)行顯影處理;對(duì)n型硅片n面與p面進(jìn)行電鍍處理,使n型硅片n面與p面鍍上大面積的銅金屬及錫金屬;對(duì)n型硅片n面與p面進(jìn)行退鍍與蝕刻處理,使n型硅片n面與p面形成電池表面的銅錫柵線;銅柵線表層包裹著錫,防止銅柵線氧化;所述電池片可以通過(guò)激光方式或機(jī)械切割方式沿電池片切割線位置切割成若干小片,小片電池上用于傳導(dǎo)電流的細(xì)柵線長(zhǎng)度大于50mm,切割后的小片電池可以通過(guò)邊緣首尾交疊的方式進(jìn)行串焊,形成電池串。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:所述電池片電極采用銅錫柵線電極結(jié)構(gòu),其銅電極柵線表面鍍有錫層,錫層的厚度為3μm~15μm,柵線的總厚度為15μm~60μm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:電池片表面柵線由多個(gè)主柵與細(xì)柵組成,主柵與細(xì)柵垂直,細(xì)線與細(xì)線之間通過(guò)小細(xì)柵進(jìn)行連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:所述電池片主柵表層材質(zhì)為錫,厚度3μm~15μm,在主柵線上涂抹助焊劑,通過(guò)高溫焊接的方式,讓電池片的錫層融合焊接,也可以在主柵上涂抹導(dǎo)電膠進(jìn)行焊接。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:所述電池片主柵線寬度為0.3-1.8mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:所述電池片細(xì)柵線寬度為0.03-0.1mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種異質(zhì)結(jié)疊瓦太陽(yáng)能電池片的制備方法,其特征在于:所述電池片本體的尺寸≥158mm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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