[發明專利]回流式三維電極電容反應器

在審

• 申請號: 202110389891.4
• 申請日: 2021-04-12
• 公開（公告）號: CN113104938A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發明（設計）人: 趙興蘭;石闖
• 申請（專利權）人: 安徽理工大學
• 主分類號: C02F1/461
• 分類號: C02F1/461
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明的回流式三維電極電容反應器包括進水箱、蠕動泵、電容反應器(石墨板、三維電極、磁力攪拌器)、出水箱。本發明在出水箱底部與進水箱底部用塑料軟管連接構成回流裝置。并在電容反應槽內上部和下部分別安裝有可拆卸式極板卡槽板(石墨板)和可拆卸式三維電極承托板,三維電極承托板上設有直徑小于三維電極填料尺寸的過水孔；進水口設在三維電極承托板之下10mm～50mm處的電容反應槽的槽壁上，出水口設在電容反應槽的槽壁頂部往下10mm～50mm處；電容反應槽底部固接有一個磁力攪拌電機,槽底放置磁力攪拌子。本發明可以最大限度地提高去除率，而且可以避免積泥防止堵塞。適用于許多水處理場合及其他流體處理場合。

技術領域

本發明屬于一種實驗裝置，具體涉及一種回流式三維電極電容反應器。

背景技術

在目前一般進行電容反應的實驗研究中，對于三維電極—電容反應的實驗是逐漸普遍的研究方向之一。當前的三維電極—電容實驗裝置通常是在玻璃燒杯、塑料攪拌器中直接放入電極填料直接進行反應。但在操作過程中燒杯底部放置三維電極填料后，必須外加攪拌，因而在操作中容易出現同時需要攪拌、調整極板間距等的狀況，并且當前的實驗裝置并沒有回流裝置，大部分實驗采用靜態實驗。解決當前出現的問題是需要一種電容實驗裝置，能夠在實現水體均勻攪拌的同時實現極板間距可調從而保證反應體系均勻穩定；而且在出水箱和進水箱之間用塑料軟管連接構成回流裝置，這種回流裝置可以使這種實驗為動態實驗，并且可以提高被處理水的去除率，使得凈水效果更好，能更好的取出各種污染物，且取樣檢測結果會更加準確。

發明內容

本發明的目的在于提供一種結構簡單、操作簡便、檢測結果準確的回流式三維電極電容反應器

本發明的目的是通過如下的技術方案來實現的：該回流式三維電極電容反應器，包括進水箱、電容反應槽、石墨板、隔膜、三維電極填料、磁力攪拌轉子、磁力攪拌電機、出水箱；其特點是：在電容反應槽內的上部和下部分別安裝有可拆卸式極板卡槽板和可拆卸式三維電極承托板，所述極板卡槽板上設有兩個以上的極板卡槽，所述三維電極承托板上設有直徑小于三維電極填料尺寸的過水孔；在位于三維電極承托板之下10mm～50mm處的電容反應槽的槽壁上設有進水口，在電容反應槽的槽壁頂部往下10mm～50mm處設有進水口；所述三維電極填料置于三維電極承托板之上，所述磁力轉子置于三維電極承托板與電容反應槽底板之間的空間內；所述電容反應槽底部固接有一個磁力攪拌電機。

具體的，所述出水箱與進水箱用塑料軟管連接構成回流裝置，使得實驗為動態實驗。

具體的，所述出水箱底部裝有磁力攪拌裝置，使得污水能夠快速通過塑料軟管不至堵塞，進而進入進水箱構成回流，提高去除率。

具體的，所述進水口設在三維電極擋板之下的電容反應槽的槽壁上5mm～25mm處，出水口設在電容反應槽的槽壁頂部往下10mm～50mm處。

具體的，所述電容反應槽為長方體形，其長寬高的范圍是：長10-15cm，寬10-15cm，高15-20cm。。

具體的，所述電容反應器內設有兩個以上電極板卡槽，電極板間距在10mm～50mm范圍內調節。

具體的，所述電極板采用石墨板，此裝置采用兩個石墨板。

具體的，所述三維電極填料采用陽極顆粒填充在陽極區，隔膜左邊為陰極室，右邊為陽極室。

具體的，所述電容反應器內設有兩個以上電極板卡槽，電極板間距在10mm～50mm范圍內調節。