[發明專利]回流式三維電極電容反應器在審
| 申請號: | 202110389891.4 | 申請日: | 2021-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN113104938A | 公開(公告)日: | 2021-07-13 |
| 發明(設計)人: | 趙興蘭;石闖 | 申請(專利權)人: | 安徽理工大學 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 232001 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 回流 三維 電極 電容 反應器 | ||
1.一種回流式三維電極電容反應器,包括進水箱1、蠕動泵2、電容反應槽3、被處理水進口4、直流穩壓電源5、石墨板6和8、隔膜7(左邊陰極室、右邊陽極室)、三維電極填料10、三維電極承托板11、磁力攪拌轉子12和16、磁力攪拌電機13和17,被處理水出口9、出水箱15、取樣口14、回流裝置18(塑料軟管連接);其特征在于:在進水箱1和出水箱15用塑料軟管連接構成回流裝置18;電容反應槽3內的上部和下部分別安裝有可拆卸式極板卡槽板6和8以及可拆卸式三維電極承托板11,所述極板卡槽板上6和8設有極板卡槽,所述三維電極承托板11上設有直徑小于三維電極填料10尺寸的過水孔;進水口4設在三維電極承托板11之下10mm~50mm處的電容反應槽3的槽壁上,出水口9設在在電容反應槽的槽壁頂部往下10mm~50mm處;電容反應槽3底部固接有一個磁力攪拌電機13,槽底放置磁力攪拌子12。
2.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于:所述出水箱15與進水箱1之間用塑料軟管連接構成回流裝置18。
3.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于:所述電容反應槽3為長方體形,其長寬高的范圍是:長10-15cm,寬10-15cm,高15-20cm。
4.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于:所述石墨板上設有兩個個電極板卡槽。
5.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于:所述進水口4設在三維電極承托板11之下10mm~50mm處的電容反應槽3的槽壁上,出水口9設在在電容反應槽的槽壁頂部往下10mm~50mm處。
6.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于出水箱15底部放有磁力攪拌電機17,并且箱底置有磁力攪拌轉子16,使得出水箱15底部渾濁物能夠更好的回流,不至堵塞塑料軟管。
7.根據權利要求1所述回流式三維電極電容反應器,其特征在于出水箱15上部留有取樣口14,可以取出上清液。
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