[發明專利]一種銨光鹵石脫水料及利用其制備鎂電解質熔體的方法有效
| 申請號: | 202110383208.6 | 申請日: | 2021-04-09 |
| 公開(公告)號: | CN112899728B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發明(設計)人: | 盧旭晨;張志敏;閆巖;王天華;薛立強;李金沙 | 申請(專利權)人: | 河北大有鎂業有限責任公司;中國科學院過程工程研究所 |
| 主分類號: | C25C3/04 | 分類號: | C25C3/04;C01C1/02;C01B7/05 |
| 代理公司: | 石家莊知住優創知識產權代理事務所(普通合伙) 13131 | 代理人: | 王麗巧 |
| 地址: | 050000 河北省石家莊市循環*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光鹵石 脫水 料及 利用 制備 電解質 方法 | ||
本發明公開了一種銨光鹵石脫水料
技術領域
本發明涉及無機材料的制備技術領域,具體涉及一種銨光鹵石脫水料以及基于該銨光鹵石脫水料制備鎂電解質熔體的方法。
背景技術
我國有豐富的液態鎂資源,如青海鹽湖在生產鉀肥的過程中,每年排放的廢棄鹵水中六水氯化鎂(MgCl2·6H2O)含量達2400-3600萬噸。大量的六水氯化鎂資源無處堆放而在當地形成“鎂害”,其開放和利用非常迫切,已成為政府部門和社會各界關注的熱點。六水氯化鎂脫水制備高純鎂電解質熔體(或無水氯化鎂),然后再通過電解法制備得到金屬鎂,是實現六水氯化鎂高效高值化利用的有效途徑。然而,由于六水氯化鎂中部分結晶水與氯化鎂結合能力很強,在其被加熱脫除的過程中很容易發生水解,產生對電解有嚴重危害的水解產物(MgOHCl和MgO)。為了減弱加熱過程中的水解,通常將六水氯化鎂合成銨光鹵石(NH4Cl·MgCl2·6H2O),然后利用該復鹽中氯化鎂與結晶水結合能力小的特點進行脫水。因此,銨光鹵石脫水是研究得最久而且一直在研究的制備高純電解鎂熔體(或高純無水氯化鎂)的方法之一。道烏化學公司、凱撒鋁業公司、全蘇(俄)鋁鎂設計研究院等知名公司和研究機構都對這一方法進行過研究,發表過不少專利。
高純鎂電解質熔體(或高純無水氯化鎂)是上述電解鎂制備工藝的關鍵環節。目前利用銨光鹵石制備高純鎂電解質熔體(或高純無水氯化鎂)的方法有以下幾種:
(1)低水銨光鹵石氨法制備無水氯化鎂。Yuichi Suzukaw在專利US3798314中對該方法的原理和具體操作過程進行了描述:先將低水銨光鹵石(NH4Cl? MgCl2?
(2)氣固反應法制備無水氯化鎂。中南大學的周寧波在其發表的文獻中(詳見:周寧波, 陳白珍, 何新快, 李義兵. 銨光鹵石氣固反應法制備無水氯化鎂. 應用化學,2005, 22(8): 874-878.)詳細描述了該方法:采用鹽湖水氯鎂石和生產鎂砂副產的氯化銨為原料,按照氯化鎂與氯化銨的摩爾比1:1混合,在一定條件下合成銨光鹵石。將銨光鹵石在160℃脫水4小時生成低水銨光鹵石(NH4Cl?MgCl2?
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