[發明專利]一種硅片烘烤用加熱裝置在審
| 申請號: | 202110379658.8 | 申請日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN113206167A | 公開(公告)日: | 2021-08-03 |
| 發明(設計)人: | 李雙玉 | 申請(專利權)人: | 涌明科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0236 |
| 代理公司: | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人: | 范琳 |
| 地址: | 201599 上海市金山*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 硅片 烘烤 加熱 裝置 | ||
本發明公開了一種硅片烘烤用加熱裝置,其包括輸送構件和烘箱,所述烘箱兩側均設置有開口,所述輸送構件通過烘箱兩側的開口貫穿于烘箱內腔下部,所述烘箱上端固定安裝有分流罩,所述分流罩上端固定安裝有電熱箱,所述電熱箱上端固定安裝有進風罩,所述電熱箱的一側固定安裝有安裝板,所述安裝板上端固定安裝有鼓風機,所述鼓風機的出風端固定連接有排風管,所述排風管的另一端與進風罩固定連接,所述電熱箱的前端固定安裝有電控盒,所述電熱箱內固定安裝有電熱網。本發明所述的一種硅片烘烤用加熱裝置,能同時烘干大量硅片,硅片受熱烘干均勻,且還能夠在一定范圍內適用于不同尺寸的硅片烘干工作,其適用范圍更廣,工作效率更高。
技術領域
本發明涉及半導體加工技術領域,特別涉及一種硅片烘烤用加熱裝置。
背景技術
單晶硅是一種比較活潑的非金屬元素,是晶體材料的重要組成部分,處于新材料發展的前沿。其主要用途是用作半導體材料和利用太陽能光伏發電、供熱等。由于太陽能具有清潔、環保、方便等諸多優勢,近三十年來,太陽能利用技術在研究開發、商業化生產、市場開拓方面都獲得了長足發展,成為世界快速、穩定發展的新興產業之一。
目前主流的制絨方向是單面制絨技術,即將兩片硅片背靠背插入花籃進行制絨;與雙面制絨對比,單面制絨可以降低化學品成本的約45%,降低純水用量約30%,同時制絨產能單小時翻倍,減少購置機臺的成本。
為了檢測硅片的合格率,通常在單面制絨完畢后,人工進行取片手動分片,然后甩干或吹干進行測試,這樣的測試結果取決于人工對硅片處理的態度,很難有效保證數據的有效性、及時性及準確性。此外,采用人工氣槍吹干耗時長,很難控制合理的出氣量,碎片幾率較高,且容易出現硅片表面殘留的現象。
發明內容
本發明的主要目的在于提供一種硅片烘烤用加熱裝置,可以有效解決背景技術中的問題。
為實現上述目的,本發明采取的技術方案為:
一種硅片烘烤用加熱裝置,其包括輸送構件和烘箱,所述烘箱兩側均設置有開口,所述輸送構件通過烘箱兩側的開口貫穿于烘箱內腔下部,所述烘箱上端固定安裝有分流罩,所述分流罩上端固定安裝有電熱箱,所述電熱箱上端固定安裝有進風罩,所述電熱箱的一側固定安裝有安裝板,所述安裝板上端固定安裝有鼓風機,所述鼓風機的出風端固定連接有排風管,所述排風管的另一端與進風罩固定連接,所述電熱箱的前端固定安裝有電控盒,所述電熱箱內固定安裝有電熱網,所述烘箱前端下部和后端下部均固定安裝有水平板,且水平板下端均對稱固定安裝有支撐腳。
優選的,所述烘箱、分流罩、電熱箱和進風罩均為一體成型結構且內部相通,所述分流罩內腔前后側壁之間共同固定有奇數個傾斜板,所述烘箱內腔上部前后側壁之間共同固定安裝有與傾斜板的數量相等的豎直板,且每個豎直板分別固定連接在其中一個傾斜板下端。
優選的,位于兩側所述傾斜板關于位于正中間的傾斜板呈左右堆成,且每兩個相鄰的傾斜板上端面之間的距離均相等,位于兩側的所述傾斜板分別與所述分流罩兩側內壁之間的距離相等。
優選的,所述輸送構件包括四個支撐板和安裝座,位于左側的兩個支撐板和位于右側的兩個支撐板相對面上部均通過軸承座轉動連接有軸桿,且每個軸桿外表面均固定安裝有傳動輥,位于一側的所述軸桿的一端貫穿支撐板延伸伺服電機上方并固定安裝有第一皮帶輪,所述安裝座上端固定安裝有伺服電機,所述伺服電機的輸出端通過傳動軸固定連接有第二皮帶輪,且第二皮帶輪和第一皮帶輪之間共同纏繞安裝有傳動皮帶,兩個所述傳動輥之間共同纏繞安裝有輸送帶,所述輸送帶的外表面等距固定安裝有若干個固定件。
優選的,所述輸送帶外表面位于相鄰兩個固定件之間均開設有穿通的矩形通風槽。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





