[發明專利]一種量子點發光層的制備方法有效
| 申請號： | 202110379088.2 | 申請日： | 2021-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN113097423B | 公開（公告）日： | 2023-05-23 |
| 發明（設計）人： | 孫小衛;王愷;賈思琪;馬精瑞;劉湃;高丹鵬 | 申請（專利權）人： | 深圳撲浪創新科技有限公司 |
| 主分類號： | H10K71/13 | 分類號： | H10K71/13;H10K71/00;H10K50/115;H10K59/10 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 潘登 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市龍崗區布吉街道甘李*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 量子 發光 制備 方法 | ||
1.一種量子點發光層的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：將聚合物涂覆于基板上，形成聚合物阻擋層，再將量子點墨水根據像素化圖案在所述聚合物阻擋層上打印，所述量子點墨水溶解打印處的聚合物阻擋層，在打印的同時形成像素，得到所述量子點發光層；
所述聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯或聚乙烯吡咯烷酮中的任意一種或至少兩種的組合；
所述量子點墨水包括量子點材料和有機溶劑的組合；
所述量子點墨水中量子點材料的質量濃度為1-70mg/mL，所述打印過程中每個像素點位置量子點墨水的體積為10-200pL，所述聚合物阻擋層的厚度為2-10nm；
所述量子點材料包括鎘系量子點材料、銦系量子點材料或鈣鈦礦中的任意一種或至少兩種的組合；
所述有機溶劑包括烷烴類溶劑、醇類溶劑、酯類溶劑或芳香烴溶劑中的任意一種或至少兩種的組合。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述有機溶劑包括氯苯、環己基苯或環己基乙醇中的任意一種或至少兩種的組合。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述打印的方式包括噴墨打印、絲網印刷、噴涂或電流體打印中的任意一種或至少兩種的組合。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法還包括在打印之后依次進行靜置和干燥兩步操作。
5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述靜置的時間為10-60min。
6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：
(1)將聚合物涂覆于基板上，形成2-10nm的聚合物阻擋層；
(2)將質量濃度為1-70mg/mL的量子點墨水在所述聚合物阻擋層上根據像素化圖案打印，每個像素點量子點墨水的體積為10-200pL，靜置10-60min后干燥，得到所述量子點發光層。
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