[發明專利]一種激光測量系統在審
| 申請號: | 202110378902.9 | 申請日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN113281768A | 公開(公告)日: | 2021-08-20 |
| 發明(設計)人: | 王偉毅 | 申請(專利權)人: | 杭州巨星科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G01S17/48 | 分類號: | G01S17/48;G01S7/481 |
| 代理公司: | 杭州杭誠專利事務所有限公司 33109 | 代理人: | 尉偉敏 |
| 地址: | 310019 浙江省杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 激光 測量 系統 | ||
1.一種激光測量系統,其特征在于,包括:
第一發射模塊,發射激光;
第二發射模塊,發射激光,與第一發射模塊的出射方向不同;
分光模塊,設置于兩束激光的反射光路的交匯區域,并匯總光束;
接收模塊,接收分光模塊匯總光束并轉換為電信號。
2.根據權利要求1所述的一種激光測量系統,其特征在于,所述第一發射模塊的出射方向與第二發射模塊的出射方向垂直。
3.根據權利要求2所述的一種激光測量系統,其特征在于,所述分光模塊包括分光鏡,所述分光鏡包括透射面以及半反半透面,所述第一發射模塊和第二發射模塊之一的反射光經過透射面以及半反半透面透射至接收模塊,另一束反射光經過半反半透面反射后進入接收模塊。
4.根據權利要求1所述的一種激光測量系統,其特征在于,所述第一發射模塊的出射方向與第二發射模塊的出射方向相反。
5.根據權利要求4所述的一種激光測量系統,其特征在于,所述分光模塊包括分光鏡,所述分光鏡包括透射面、第一半反半透面以及第二半反半透面,所述第一發射模塊和第二發射模塊之一的反射光經過透射面后經過第一半反半透面反射,再經過第二半反半透面透射后進入接收模塊,另一束反射光經過第二半反半透面反射后進入接收模塊。
6.根據權利要求1所述的一種激光測量系統,其特征在于,還包括第三發射模塊,發射模塊之間出射方向呈十字形,所述分光模塊包括四錐鏡,所述四錐鏡表面鍍有反射膜,發射模塊出射的激光反回后分別經過四錐鏡的不同反射膜反射至接收模塊。
7.根據權利要求3或5所述的一種激光測量系統,其特征在于,所述透射面包括AR增透膜。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于杭州巨星科技股份有限公司,未經杭州巨星科技股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110378902.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:消防水帶洗滌設備
- 下一篇:針對網絡攻擊的ACL過濾表項建立方法及裝置





