[發(fā)明專利]一種掩膜版框架重復(fù)使用的方法、掩膜版框架和掩膜版在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110378383.6 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113088877A | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 晏利瑞 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;C23C16/04;B23K31/02 |
| 代理公司: | 北京聿宏知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11372 | 代理人: | 吳大建;陳敏 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 掩膜版 框架 重復(fù)使用 方法 | ||
本發(fā)明提供了一種掩膜版框架重復(fù)使用的方法、掩膜版框架和掩膜版,解決了掩膜版框架不能重復(fù)利用,導(dǎo)致工藝成本過高,且浪費(fèi)資源的問題。所述掩膜版框架包括多條邊框,每條所述邊框包括X個(gè)焊接區(qū)域,其中X≥2;所述掩膜版框架重復(fù)使用的方法包括:第n次焊接張網(wǎng),其中第n次焊接張網(wǎng)包括將待焊接張網(wǎng)焊接在所述邊框的第m焊接區(qū)域,其中,n≥1,1≤m≤X;第n+i次焊接張網(wǎng),i≥1,其中第n+i次焊接張網(wǎng)包括將待焊接張網(wǎng)焊接在第q焊接區(qū)域,1≤q≤X,且q不等于m;或,打磨第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的所述第m焊接區(qū)域。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種掩膜版框架重復(fù)使用的方法、掩膜版框架和掩膜版。
背景技術(shù)
在柔性O(shè)led(OrganicLight-Emitting Diode,有機(jī)發(fā)光二極管)器件的封裝工藝中,掩膜版是最重要的一個(gè)器件之一,而掩膜版的耗費(fèi)在各個(gè)工藝均占了極大的比重。OpenMask(開放式掩膜版)與CVD Mask(化學(xué)氣相沉積掩膜版)的耗費(fèi)主要由其制作成本決定,制作成本中掩膜版框架的費(fèi)用又占了較高的比重,在工藝過程中掩膜版框架由于不能重復(fù)利用需要不斷更換,導(dǎo)致工藝成本過高,且浪費(fèi)資源。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種掩膜版框架重復(fù)使用的方法、掩膜版框架和掩膜版,解決了掩膜版框架不能重復(fù)利用,導(dǎo)致工藝成本過高,且浪費(fèi)資源的問題。
本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種掩膜版框架重復(fù)使用的方法包括:所述掩膜版框架包括多條邊框,每條所述邊框包括X個(gè)焊接區(qū)域,其中X≥2;所述掩膜版框架重復(fù)使用的方法包括:第n次焊接張網(wǎng),其中第n次焊接張網(wǎng)包括將待焊接張網(wǎng)焊接在所述邊框的第m焊接區(qū)域,其中,n≥1,1≤m≤X;第n+i次焊接張網(wǎng),i=1,其中第n+i次焊接張網(wǎng)包括將待焊接張網(wǎng)焊接在第q焊接區(qū)域,1≤q≤X,且q不等于m;或,打磨第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的所述第m焊接區(qū)域。
在一種實(shí)施方式中,所述打磨第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的所述第m焊接區(qū)域的步驟包括:當(dāng)所述第m焊接區(qū)域的厚度大于預(yù)設(shè)厚度時(shí),所述第m焊接區(qū)域不再進(jìn)行打磨。
在一種實(shí)施方式中,在所述第n+i次焊接張網(wǎng)的步驟之前還包括:從所述第m焊接區(qū)域去除所述第m焊接區(qū)域已經(jīng)焊接的張網(wǎng)。
在一種實(shí)施方式中,所述第n+i次焊接張網(wǎng)包括將待焊接張網(wǎng)焊接在第q焊接區(qū)域的步驟包括:重復(fù)將待焊接張網(wǎng)焊接在第q焊接區(qū)域的步驟,直到所有焊接區(qū)域均被焊接過張網(wǎng);之后再進(jìn)行下一次焊接時(shí),打磨第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的所述第m焊接區(qū)域。
在一種實(shí)施方式中,所述打磨第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的所述第m焊接區(qū)域的步驟包括:重復(fù)打磨所述第m焊接區(qū)域,將待焊接張網(wǎng)焊接在打磨后的第m焊接區(qū)域的步驟,直到所述第m焊接區(qū)域的厚度等于預(yù)設(shè)厚度;之后再進(jìn)行下一次焊接時(shí),將待焊接張網(wǎng)焊接在第q焊接區(qū)域。
在一種實(shí)施方式中,所述第m焊接區(qū)域位于所述邊框的內(nèi)側(cè),所述第q焊接區(qū)域位于所述邊框的外側(cè)。
在一種實(shí)施方式中,所述第q焊接區(qū)域位于所述邊框的內(nèi)側(cè),所述第m焊接區(qū)域位于所述邊框的外側(cè)。
在一種實(shí)施方式中,所述掩膜版框架重復(fù)焊接的次數(shù)F=X*(Y+1);其中,X為所述焊接區(qū)域的總個(gè)數(shù);Y為每個(gè)所述焊接區(qū)域打磨到預(yù)設(shè)厚度的次數(shù)。
一種掩膜版框架,包括:多條邊框,其中每條所述邊框包括X個(gè)焊接區(qū)域,其中X≥2;所述X個(gè)焊接區(qū)域包括用于第n次焊接待焊接張網(wǎng)的第m焊接區(qū)域和用于第n+i次焊接待焊接張網(wǎng)的焊接區(qū)域,所述用于第n+i次焊接待焊接張網(wǎng)的焊接區(qū)域包括打磨后的所述第m焊接區(qū)域或第q焊接區(qū)域,其中1≤m≤X,1≤q≤X,且q不等于n,i=1,n=1;所述打磨后的所述第m焊接區(qū)域?yàn)榈趎次焊接待焊接張網(wǎng)后,去除所述第m焊接區(qū)域焊接的張網(wǎng),并對(duì)去除了所述張網(wǎng)的所述第m焊接區(qū)域打磨得到。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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