[發明專利]一種電子級混合酸蝕刻液的制備方法在審
| 申請號: | 202110376327.9 | 申請日: | 2021-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN113072306A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發明(設計)人: | 劉芳;趙寶勤;蓋炳凱;祁亞琴;于婷 | 申請(專利權)人: | 煙臺遠東精細化工有限公司 |
| 主分類號: | C03C15/00 | 分類號: | C03C15/00 |
| 代理公司: | 煙臺雙聯專利事務所(普通合伙) 37225 | 代理人: | 王娟 |
| 地址: | 265200 山東省煙*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 電子 混合 蝕刻 制備 方法 | ||
本發明公開了一種電子級混合酸蝕刻液的制備方法,具體步驟為向混合酸配制罐中,打入電子級氫氟酸,同時打開攪拌機;再向混合酸配制罐中,打入電子級濃硝酸,攪拌均勻,制成混合酸;再有選擇地加入無機酸以及有機酸,混合攪拌均勻。其各組份的質量配比為:電子級氫氟酸:電子級濃硝酸:無機酸:有機酸=1:1~4.5:0~5.0:0~1.5。本發明為了抑制單一氫氟酸與二氧化硅的不穩定化學反應,提高蝕刻效率和改善蝕刻品質,通過在氫氟酸中添加無機酸或有機酸的方法,配制形成了一種由多種組分構成的混合酸蝕刻液,進一步改善液晶面板/玻璃基板及太陽能電池板(片)的化學蝕刻過程,不僅使整個蝕刻過程平穩、有效、可控,而且能有效抑制整個蝕刻過程中玻璃表面不良凸點的產生,和凹點及劃傷的進一步擴散,進而使產品的優等品率大幅度提高。
技術領域
本發明涉及一種電子級混合酸蝕刻液的制備方法,應用于液晶面板和玻璃基板的蝕刻減薄及太陽能電池板(片)的清洗制絨等,屬于電子化學品應用技術領域。
背景技術
在液晶面板和玻璃基板減薄之初,主要通過單一氫氟酸兌純水進行稀釋后與玻璃反應,隨著減薄厚度不斷增加,以及玻璃材質的多樣化等薄化要求提升,在行業實際操作中發現,僅靠原有的單一氫氟酸已經不能滿足現在對液晶面板和玻璃基板的化學蝕刻要求。其主要問題反映在以下幾個方面:
1、氫氟酸受溫度變化影響大,導致蝕刻效率不穩定性地的變化,不易控制蝕刻過程。
2、容易與SiO2反應產生白色的硅酸鹽結晶等難溶物質,并且該物質懸浮在蝕刻液中,以及粘附與蝕刻在設備管道中,嚴重影響蝕刻設備的運行和蝕刻液的循環利用。
3、難溶雜質粘附蝕刻產品表面易導致表面和邊緣產生不良凸點等,嚴重影響蝕刻產品的表面品質。
4、容易導致蝕刻產品表面凹點和劃傷等缺陷放大。
5、蝕刻過程速率不穩定,氫氟酸的利用率不高,導致后期中和廢酸處理成本增加。以及高溫下氫氟酸較容易揮發,增加安全隱患。
發明內容
本發明的目的在于克服上述已有技術的不足而提供一種電子級混合酸蝕刻液的制備方法。
本發明提供的技術方案如下:一種電子級混合酸蝕刻液的制備方法,其特征在于其具體步驟如下:
(1)將內襯聚四氟乙烯涂層的混合酸配制罐用純水洗凈;將電子級氫氟酸輸送至氫氟酸計量罐,計量備用;將電子級濃硝酸輸送至硝酸計量罐,計量備用;將無機酸輸送至無機酸計量罐,計量備用;將有機酸輸送至有機酸計量罐,計量備用;所述的無機酸為濃硫酸或磷酸中的至少一種,所述的有機酸為乙酸、過氧乙酸、甲酸、丙酸中的一種;各組份的質量配比為:電子級氫氟酸 : 電子級濃硝酸: 無機酸: 有機酸=1 : 1~4.5 : 0~5.0 : 0~1.5;
(2)首先,向混合酸配制罐中,用耐腐蝕泵打入電子級氫氟酸,同時打開攪拌機;
(3)再向混合酸配制罐中,用另一耐腐蝕泵打入電子級濃硝酸,攪拌均勻,制成混合酸;
(4)在上述混合酸的基礎上,再有選擇地加入無機酸以及有機酸,混合攪拌均勻,取樣化驗,將合格的混合酸放入混合酸儲罐中待售。
進一步地,所述的電子級氫氟酸的質量濃度為48.5%~49.5%,所述的電子級濃硝酸的質量濃度為68.5%~70.5%。
進一步地,所述的磷酸與電子級氫氟酸的質量配比為0~4.0:1。
進一步地,所述的濃硫酸與電子級氫氟酸的質量配比為0~1.0:1。
進一步地,所述的濃硫酸、磷酸、乙酸、過氧乙酸、甲酸、丙酸均為化學試劑分析純以上級別。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于煙臺遠東精細化工有限公司,未經煙臺遠東精細化工有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110376327.9/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





