[發明專利]基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置

在審

• 申請號: 202110375187.3
• 申請日: 2021-04-08
• 公開（公告）號: CN113174563A
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 段廷原;張銖倉
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12;C23C14/50
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 杜蕾

本發明公開了一種基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置。該基板架結構包括：能夠旋轉的主軸；緩沖層，套接于主軸上；密封層，套接于緩沖層上；多個第一密封環，套接于主軸上且位于主軸和緩沖層之間；以及多個第二密封環，套接于緩沖層且位于緩沖層和密封層之間。由此，能夠減少主軸以及密封層的維護和更換次數，并減少漏液風險，從而能夠提高生產效率。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置。

背景技術

有機電致發光二極體(Organic light emitting diode，OLED)的發光層主要依靠蒸鍍設備進行鍍膜制成。蒸鍍就是在真空中通過電流加熱，電子束轟擊加熱和激光加熱等方法，使被蒸材料蒸發成原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基板表面而凝結，從而形成薄膜。點源蒸鍍機是一種常用的蒸鍍設備，為了保證成膜的均一性和厚度，在蒸鍍時，需要對待蒸鍍的基板(玻璃)進行冷卻，以防止高溫損壞器件的性能，同時，還要對待蒸鍍的基板進行勻速旋轉，以保證蒸鍍出來的分子可以較為平整地吸附在基板上。

然而，在點源蒸鍍機中，基板架的軸承在帶著基板旋轉時，內部的冷卻液密封層容易受損，使得冷卻液容易發生泄漏。

發明內容

鑒于上述內容，本發明提出了一種基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置，能夠減少主軸以及密封層的維護和更換次數，并減少漏液風險，從而能夠提高生產效率。

本發明的一方面提供了一種基板架結構，包括：

能夠旋轉的主軸；

緩沖層，套接于所述主軸上；

密封層，套接于所述緩沖層上；

多個第一密封環，套接于所述主軸上且位于所述主軸和所述緩沖層之間；以及

多個第二密封環，套接于所述緩沖層且位于所述緩沖層和所述密封層之間。

在一優選實施例中，所述緩沖層固定于所述主軸上，以與所述主軸同時旋轉。

在一優選實施例中，所述基板架結構還包括冷卻板，所述冷卻板設置于所述主軸的一端，以用于固定和冷卻基板。

在一優選實施例中，所述緩沖層的材料為不銹鋼、因瓦合金，鋁合金中的一種。

在一優選實施例中，所述緩沖層的厚度范圍為0.5mm到2mm。

在一優選實施例中，所述緩沖層的厚度為1mm。

在一優選實施例中，所述緩沖層的表面粗糙度小于0.2um。

在一優選實施例中，所述第一密封環和所述第二密封環為O型圈。

在一優選實施例中，所述O型圈的壓縮率大于5％。

在一優選實施例中，所述第二密封環的數量大于所述第一密封環的數量。

在一優選實施例中，所述第二密封環的數量大于5個。

本發明的另一方面提供了一種蒸鍍裝置，包括如上所述的基板架結構。

本發明的基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置通過在所述主軸和所述密封層之間增加所述緩沖層，能夠避免所述密封層與所述主軸發生摩擦，同時，在所述密封層與所述緩沖層摩擦時，所述緩沖層與所述主軸間的多個第一密封環能夠起到緩沖作用，從而避免了將所述密封層與所述緩沖層之間的多個第二密封環損壞。由此，能夠減少所述主軸以及所述密封層的維護和更換次數，并減少漏液風險，從而能夠提高生產效率。

附圖說明