[發明專利]基板架結構及包括該基板架結構的蒸鍍裝置在審
| 申請號： | 202110375187.3 | 申請日： | 2021-04-08 |
| 公開（公告）號： | CN113174563A | 公開（公告）日： | 2021-07-27 |
| 發明（設計）人： | 段廷原;張銖倉 | 申請（專利權）人： | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/24 | 分類號： | C23C14/24;C23C14/12;C23C14/50 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 杜蕾 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基板架 結構 包括 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種基板架結構，其特征在于，包括：
能夠旋轉的主軸；
緩沖層，套接于所述主軸上；
密封層，套接于所述緩沖層上；
多個第一密封環，套接于所述主軸上且位于所述主軸和所述緩沖層之間；以及
多個第二密封環，套接于所述緩沖層且位于所述緩沖層和所述密封層之間。
2.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，所述緩沖層固定于所述主軸上，以與所述主軸同時旋轉。
3.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，還包括冷卻板，所述冷卻板設置于所述主軸的一端，以用于固定和冷卻基板。
4.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，所述緩沖層的厚度范圍為0.5mm到2mm。
5.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，所述緩沖層的表面粗糙度小于0.2um。
6.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，所述第一密封環和所述第二密封環為O型圈。
7.根據權利要求6所述基板架結構，其特征在于，所述O型圈的壓縮率大于5％。
8.根據權利要求1所述基板架結構，其特征在于，所述第二密封環的數量大于所述第一密封環的數量。
9.根據權利要求8所述基板架結構，其特征在于，所述第二密封環的數量大于5個。
10.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權利要求1-9任一項所述的基板架結構。
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