[發(fā)明專利]一種標(biāo)定塊、缺陷檢測裝置及缺陷檢測方法

在審

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• 申請日: 2021-04-07
• 公開（公告）號: CN113109354A
• 公開（公告）日: 2021-07-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔國棟
• 申請（專利權(quán)）人: 上海御微半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種標(biāo)定塊，其特征在于，包括：

沿第一方向排布的N個臺階部，沿第二方向，N個臺階部的高度各不相同，其中，所述第一方向垂直于所述第二方向，N≥2且N為整數(shù)；

所述臺階部包括垂直于所述第二方向的頂面，所述頂面設(shè)置有分辨率測試圖案。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)定塊，其特征在于，所述臺階部的所述頂面設(shè)置有至少兩個所述分辨率測試圖案，至少兩個所述分辨率測試圖案的尺寸相同或不同。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)定塊，其特征在于，所述分辨率測試圖案包括USAF1951分辨率測試圖案。

4.一種缺陷檢測裝置，其特征在于，包括權(quán)利要求1-3任一項所述的標(biāo)定塊；

所述缺陷檢測裝置還包括載物臺、圖像采集模塊和計算機控制模塊；

所述載物臺用于承載待測物；所述圖像采集模塊用于采集所述待測物的圖像；所述計算機控制模塊與所述圖像采集模塊電連接，用于根據(jù)所述待測物的圖像對所述待測物進(jìn)行缺陷檢測；

所述標(biāo)定塊固定于所述載物臺上，所述圖像采集模塊還用于采集所述標(biāo)定塊的圖像，所述計算機控制模塊還用于根據(jù)所述標(biāo)定塊的圖像獲取所述圖像采集模塊的焦深和最佳焦面。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，

所述缺陷檢測裝置還包括運動控制模塊，所述運動控制模塊與所述載物臺連接，和/或，所述運動控制模塊與所述圖像采集模塊連接；

所述運動控制模塊用于驅(qū)動所述載物臺和/或所述圖像采集模塊運動。

6.一種缺陷檢測方法，應(yīng)用于權(quán)利要求4或權(quán)利要求5所述的缺陷檢測裝置，其特征在于，包括：

獲取標(biāo)定塊的圖像，所述標(biāo)定塊的圖像包括N個第一子圖像，N個所述第一子圖像與N個臺階部對應(yīng)，所述第一子圖像為對應(yīng)的臺階部的頂面上分辨率測試圖案的圖像，其中，N≥2且N為整數(shù)；

根據(jù)所述標(biāo)定塊的圖像獲取圖像采集模塊的焦深和最佳焦面；

根據(jù)所述焦深和所述最佳焦面獲取待測物的圖像。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的缺陷檢測方法，其特征在于，根據(jù)所述標(biāo)定塊的圖像獲取圖像采集模塊的焦深和最佳焦面，包括：

計算所述第一子圖像的對比度；

根據(jù)所述第一子圖像的對比度計算所述圖像采集模塊的焦深；

根據(jù)所述焦深計算所述圖像采集模塊的最佳焦面。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的缺陷檢測方法，其特征在于，計算所述第一子圖像的對比度，包括：

根據(jù)計算所述第一子圖像的對比度，其中，C_Hi為第i個所述第一子圖像的對比度，為第i個所述第一子圖像的亮度最大值，為第i個所述第一子圖像的亮度最小值，1≤i≤N。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的缺陷檢測方法，其特征在于，根據(jù)所述第一子圖像的對比度計算所述圖像采集模塊的焦深，包括：

根據(jù)計算所述圖像采集模塊的焦深，其中，DOF為所述圖像采集模塊的焦深，為對比度C≥A時的最高標(biāo)定面位置，為對比度C≥A時的最低標(biāo)定面位置，A為預(yù)設(shè)對比度閾值。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的缺陷檢測方法，其特征在于，所述缺陷檢測裝置還包括運動控制模塊，所述運動控制模塊與所述載物臺連接，和/或，所述運動控制模塊與所述圖像采集模塊連接；所述運動控制模塊用于驅(qū)動所述載物臺和/或所述圖像采集模塊運動；

根據(jù)所述焦深和所述最佳焦面獲取待測物的圖像，包括：

所述運動控制模塊驅(qū)動所述載物臺和/或所述圖像采集模塊運動，以使待測物的待測表面位于所述圖像采集模塊的最佳焦面處；

獲取所述待測物的圖像；

根據(jù)所述待測物的圖像進(jìn)行缺陷檢測。