[發明專利]一種晶體硅堿拋光添加劑及使用方法

在審

• 申請號: 202110374139.2
• 申請日: 2021-04-07
• 公開（公告）號: CN113122148A
• 公開（公告）日: 2021-07-16
• 發明（設計）人: 華永云;杜雪峰
• 申請（專利權）人: 云南合義德新材料有限公司
• 主分類號: C09G1/04
• 分類號: C09G1/04;H01L21/306
• 代理公司: 成都東恒知盛知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 51304
• 代理人: 羅江

1.一種晶體硅堿拋光添加劑，其特征在于，包括以下成分：

冠醚；

檸檬酸；

聚季銨鹽；

乙二胺四乙酸二鈉；

硅烷偶聯劑；

十二烷基氨基丙酰胺；

苯甲酸鈉；

去離子水。

2.根據權利要求1所述的一種晶體硅堿拋光添加劑，其特征在于：其成分的占質量百分比如下：

冠醚：5.0-6.0％；

檸檬酸：2.0-4.0％；

聚季銨鹽：2.0-2.5％；

乙二胺四乙酸二鈉：1.5-2.0％；

硅烷偶聯劑：0.5-1.5％；

十二烷基氨基丙酰胺：0.1-0.5％；

苯甲酸鈉：0.3-0.5％；

去離子水：83-88.6％。

3.根據權利要求2所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：取適量晶體硅堿拋光添加劑加入堿性溶液中，混合均勻后配成拋光液，放入硅片完成拋光反應。

4.根據權利要求3所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：所述添加劑用量占拋光液總體積的比例為0.5～1.5％，所述堿性溶液為氫氧化鈉或氫氧化鉀溶液，其中氫氧化鉀或氫氧化鈉在拋光液中的含量為10～200g/L。

5.根據權利要求3所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：所述拋光反應的溫度為50～80℃，反應時間為120s～360s。

6.根據權利要求3所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：所述硅片的放置方式采用以水平或豎直方式浸沒于拋光液中或以水平方式漂浮于拋光液表面其中的一種。

7.根據權利要求3所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：所述硅片采用單面有氧化層或兩面均沒有氧化層的硅片的其中一種。

8.根據權利要求3所述的一種晶體硅堿拋光添加劑的使用方法，其特征在于：硅片完成拋光反應后，依次經過去離子水清洗、后處理、水洗、酸洗、水洗后烘干，后處理工藝為0.1％～2％的KOH或NaOH與1～8％H2O2的混合溶液、溫度為40～70℃、清洗時間為60s～300s；

酸洗工藝為HF：HCl：H2O＝1:2:4的混酸溶液、酸洗溫度為10～40℃、時間為60s～300s。