[發(fā)明專利]邊緣環(huán)、載置臺以及基板處理裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110372663.6
• 申請日: 2021-04-07
• 公開（公告）號: CN113496925A
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 千葉諒;永山晃;佐佐木康晴;佐藤大樹;富岡武敏
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 呂琳;樸秀玉

1.一種邊緣環(huán),其配置于基板的周緣,該邊緣環(huán)以如下方式形成:

以將上述邊緣環(huán)的中心軸線上的一點(diǎn)設(shè)定為中心點(diǎn)的、上述邊緣環(huán)的內(nèi)徑以上外徑以下的直徑的假想圓為基準(zhǔn),自上述假想圓上的多個點(diǎn)至上述邊緣環(huán)的下表面的垂直方向的高度的最大值與最小值的差值的絕對值為預(yù)定的上限值以下。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán),其中,

上述上限值為20μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的邊緣環(huán),其中,

上述上限值為15μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的邊緣環(huán),其中,

上述邊緣環(huán)的下表面以上述邊緣環(huán)的外周部比內(nèi)周部低的方式傾斜形成。

5.一種載置臺,其具有用于載置配置于基板的周緣的邊緣環(huán)的邊緣環(huán)載置面,該載置臺以如下方式形成:

以將上述載置臺的中心軸線上的一點(diǎn)設(shè)定為中心點(diǎn)的、上述邊緣環(huán)載置面的內(nèi)徑以上外徑以下的直徑的假想圓為基準(zhǔn),自上述假想圓上的多個點(diǎn)至上述邊緣環(huán)載置面的垂直方向的高度的最大值與最小值的差值的絕對值為預(yù)定的上限值以下。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的載置臺,其中,

上述載置臺具有用于將上述邊緣環(huán)靜電吸附于邊緣環(huán)載置面的靜電卡盤。

7.一種基板處理裝置,其具有:

邊緣環(huán),其配置于基板的周緣；以及

載置臺,其具有邊緣環(huán)載置面,

該基板處理裝置以如下方式形成:在上述邊緣環(huán)載置面和上述邊緣環(huán)的下表面中,以將上述邊緣環(huán)或上述載置臺的中心軸線上的一點(diǎn)為中心點(diǎn)的、上述邊緣環(huán)的內(nèi)徑以上外徑以下的直徑的假想圓或上述邊緣環(huán)載置面的內(nèi)徑以上外徑以下的直徑的假想圓為基準(zhǔn),通過上述假想圓上的多個點(diǎn)的各點(diǎn)的上述邊緣環(huán)載置面與上述邊緣環(huán)的下表面之間的間隙的高度的最大值與最小值的差值的絕對值為預(yù)定的上限值以下。