[發(fā)明專利]布線基板的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110366798.1 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113764283A | 公開(公告)日: | 2021-12-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 近藤春樹;森連太郎;柳本博;黑田圭兒;岡本和昭 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 豐田自動(dòng)車株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L21/48 | 分類號(hào): | H01L21/48 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 張軼楠;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 布線 制造 方法 | ||
1.一種布線基板的制造方法,所述布線基板具備:絕緣性基材和設(shè)置在所述絕緣性基材上的具有預(yù)定的布線圖案的布線層,所述方法包括:
步驟(a),準(zhǔn)備帶種層基材,
在此,所述帶種層基材包括:
所述絕緣性基材;
導(dǎo)電性的基底層,設(shè)置在所述絕緣性基材上,具有親水性的表面;
導(dǎo)電性的種層,設(shè)置于所述基底層的表面的、具有與所述布線圖案相應(yīng)的預(yù)定圖案的第1區(qū)域;以及
疏水層,設(shè)置于所述基底層的表面的、第1區(qū)域以外的區(qū)域即第2區(qū)域;
步驟(b),在所述種層的表面形成金屬層,
在此,在所述帶種層基材與陽(yáng)極之間配置含有包含金屬離子的水溶液的固體電解質(zhì)膜,使所述固體電解質(zhì)膜和所述種層壓接并向所述陽(yáng)極與所述種層之間施加電壓;以及
步驟(c),對(duì)所述疏水層及所述基底層進(jìn)行蝕刻。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,
所述步驟(a)依次包括以下步驟:
在所述絕緣性基材上形成所述基底層;
在所述基底層的表面的第1區(qū)域形成所述種層;以及
在所述基底層的表面的第2區(qū)域形成所述疏水層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,
所述步驟(a)依次包括以下步驟:
在所述絕緣性基材上形成所述基底層;
在所述基底層的表面的第2區(qū)域形成所述疏水層;以及
在所述基底層的表面的第1區(qū)域形成所述種層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的方法,
所述基底層在表面具有羥基。
5.根據(jù)權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的方法,
所述步驟(a)包括使用有機(jī)硅烷或有機(jī)硅氮烷來形成所述疏水層的步驟。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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