[發(fā)明專利]一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110364280.4
• 申請(qǐng)日: 2021-04-04
• 公開（公告）號(hào): CN113265644B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 不公告發(fā)明人
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇煌燦新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 安徽華井道知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 34195
• 代理人: 徐展

本發(fā)明涉及化學(xué)氣相淀積技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備，包括沉淀箱，所述沉淀箱的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)板，所述反應(yīng)板的底部固定連接有發(fā)熱塊，所述連動(dòng)桿的側(cè)面固定連接有斜桿，所述斜桿遠(yuǎn)離連動(dòng)桿的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有限位塊，兩個(gè)所述限位塊相對(duì)的一側(cè)滑動(dòng)連接有阻擋塊，所述金屬球的側(cè)面滑動(dòng)連接有導(dǎo)電桿，所述金屬球的底部固定連接有慣性齒桿，所述慣性齒桿的側(cè)面嚙合連接有水平螺桿，所述沉淀箱的底部開設(shè)有通氣腔，所述通氣腔的內(nèi)部設(shè)置有豎直螺桿。該基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備，通過支撐彈簧磁板的配合使用，從而達(dá)到了在對(duì)基底覆膜時(shí)，確保基底覆膜厚度與所需厚度相同的效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化學(xué)氣相淀積技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備。

背景技術(shù)

化學(xué)氣相淀積指把含有構(gòu)成薄膜元素的氣態(tài)反應(yīng)劑或液態(tài)反應(yīng)劑的蒸氣及反應(yīng)所需其它氣體引入反應(yīng)室，在襯底表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成薄膜的過程，在超大規(guī)模集成電路中很多薄膜都是采用CVD方法制備，另外，敏感元件的制造也會(huì)通過這種方法。

現(xiàn)有對(duì)敏感元件基底的化學(xué)氣相淀積是使含有待淀積物質(zhì)的化合物升華成氣體，與另一種氣體化合物在反應(yīng)室內(nèi)加熱進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，生成固態(tài)淀積物，淀積在基底上而生成薄膜，但由于設(shè)備對(duì)化學(xué)反應(yīng)速率的控制不夠精確，使得基底的覆膜厚度存在差異，對(duì)基底覆膜不利。

發(fā)明內(nèi)容

(一)解決的技術(shù)問題

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備，具備在對(duì)基底覆膜時(shí)，確保基底覆膜厚度與所需厚度相同等優(yōu)點(diǎn)，解決了現(xiàn)有基底的覆膜厚度存在差異，對(duì)基底覆膜不利的問題。

(二)技術(shù)方案

為實(shí)現(xiàn)上述在對(duì)基底覆膜時(shí)，確保基底覆膜厚度與所需厚度相同等的目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備，包括沉淀箱，所述沉淀箱的內(nèi)部設(shè)置有反應(yīng)板，所述反應(yīng)板的底部固定連接有發(fā)熱塊，所述發(fā)熱塊的下方設(shè)置有基底，所述基底的兩側(cè)設(shè)置有擠壓塊，所述擠壓塊的側(cè)面固定連接有磁性環(huán)，所述擠壓塊的側(cè)面通過連桿轉(zhuǎn)動(dòng)連接有支撐彈簧，所述磁性環(huán)的下方設(shè)置有磁板，所述磁板的底部固定連接有連動(dòng)桿，所述連動(dòng)桿的側(cè)面固定連接有斜桿，所述斜桿遠(yuǎn)離連動(dòng)桿的一側(cè)轉(zhuǎn)動(dòng)連接有限位塊，兩個(gè)所述限位塊相對(duì)的一側(cè)滑動(dòng)連接有阻擋塊，所述斜桿的底部固定連接有金屬球，所述金屬球的側(cè)面滑動(dòng)連接有導(dǎo)電桿，所述金屬球的底部固定連接有慣性齒桿，所述慣性齒桿的側(cè)面嚙合連接有水平螺桿，所述沉淀箱的底部開設(shè)有通氣腔，所述通氣腔的內(nèi)部設(shè)置有豎直螺桿。

優(yōu)選的，所述導(dǎo)電桿與控制發(fā)熱塊的電源連接，隨著導(dǎo)電桿斷路控制發(fā)熱塊停止發(fā)熱。

優(yōu)選的，所述限位塊存在彈性形變，在斜桿向下移動(dòng)時(shí)避免卡死，同時(shí)蓄力。

優(yōu)選的，所述限位塊的上方設(shè)置有限位板，且與斜桿的側(cè)面固定連接，在限位塊向下移動(dòng)時(shí)卡住限位塊避免其偏轉(zhuǎn)，而在上移時(shí)則不會(huì)。

優(yōu)選的，所述豎直螺桿的頂部設(shè)置有抽氣扇，隨著豎直螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)而轉(zhuǎn)動(dòng)，在沉淀箱內(nèi)部產(chǎn)生抽力。

優(yōu)選的，所述水平螺桿與豎直螺桿連接的區(qū)域設(shè)置有斜螺紋，使得水平螺桿能夠與豎直螺桿嚙合傳動(dòng)。

優(yōu)選的，所述水平螺桿與慣性齒桿局部嚙合，使得慣性齒桿移動(dòng)后不會(huì)卡住水平螺桿轉(zhuǎn)動(dòng)。

優(yōu)選的，所述通氣腔的內(nèi)部設(shè)置有單向閥，且閥口向下。

(三)有益效果

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供了一種基于敏感元件制造的化學(xué)氣相淀積用設(shè)備，具備以下有益效果：