[發明專利]一種基于敏感元件制造的化學氣相淀積用設備

有效

• 申請號: 202110364280.4
• 申請日: 2021-04-04
• 公開（公告）號: CN113265644B
• 公開（公告）日: 2022-12-06
• 發明（設計）人: 不公告發明人
• 申請（專利權）人: 江蘇煌燦新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44;C23C16/458;C23C16/52
• 代理公司: 安徽華井道知識產權代理有限公司 34195
• 代理人: 徐展

1.一種基于敏感元件制造的化學氣相淀積用設備的使用方法，所述設備包括沉淀箱(1)，其特征在于：所述沉淀箱(1)的內部設置有反應板(2)，所述反應板(2)的底部固定連接有發熱塊(3)，所述發熱塊(3)的下方設置有基底(4)，所述基底(4)的兩側設置有擠壓塊(5)，所述擠壓塊(5)的側面固定連接有磁性環(6)，所述擠壓塊(5)的側面通過連桿轉動連接有支撐彈簧(7)，所述磁性環(6)的下方設置有磁板(8)，所述磁板(8)的底部固定連接有連動桿(9)，所述連動桿(9)的側面固定連接有斜桿(10)，所述斜桿(10)遠離連動桿(9)的一側轉動連接有限位塊(11)，兩個所述限位塊(11)相對的一側滑動連接有阻擋塊(18)，所述斜桿(10)的底部固定連接有金屬球(12)，所述金屬球(12)的側面滑動連接有導電桿(13)，所述金屬球(12)的底部固定連接有慣性齒桿(14)，所述慣性齒桿(14)的側面嚙合連接有水平螺桿(15)，所述沉淀箱(1)的底部開設有通氣腔(17)，所述通氣腔(17)的內部設置有豎直螺桿(16)；

所述導電桿(13)與控制發熱塊(3)的電源連接；所述限位塊(11)存在彈性形變；

所述限位塊(11)的上方設置有限位板，且與斜桿(10)的側面固定連接；所述豎直螺桿(16)的頂部設置有抽氣扇；

所述水平螺桿(15)與豎直螺桿(16)連接的區域設置有斜螺紋；

所述水平螺桿(15)與慣性齒桿(14)局部嚙合；所述通氣腔(17)的內部設置有單向閥，且閥口向下；

使用時，在對基底4進行覆膜時，啟動電機，擠壓塊5帶動基底4勻速轉動，同時發熱塊3發熱對頂部反應板2進行加熱，反應板2表面化學物質升華到沉淀箱1內部，與沉淀箱1內部充入的反應氣體進行化學反應，產生的沉淀均勻附著在轉動基底4的表面，隨著覆膜的進行，基底4的重量逐漸增大，導致支撐彈簧7逐漸被拉伸，擠壓塊5側面的磁性環6逐漸向下移動，由于磁性環6與磁板8相互排斥，故隨著磁性環6向下移動，磁板8帶動底部的連動桿9向下移動，連動桿9帶動側面的斜桿10同步向下移動，在初始時，斜桿10頂部的限位塊11被阻擋塊18阻擋，其頂部的阻擋板使得限位塊11無法偏轉，故限位塊11彎曲，當其彎曲越過阻擋塊18時，斜桿10會帶動底部的金屬球12快速向下移動，金屬球12脫離導電桿13，使得與發熱塊3連接的電源斷電，故發熱塊3不再發熱，反應板2表面的物質不再升華與反應氣體產生沉淀附著在基底4表面，因此基底4覆膜停止，這種根據覆膜質量自動停止覆膜的設備，確保覆膜精準，從而達到了在對基底4覆膜時，確保基底4覆膜厚度與所需厚度相同的效果。