[發(fā)明專利]一種烤盤清洗設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202110363500.1
• 申請日: 2021-04-02
• 公開（公告）號: CN113083826B
• 公開（公告）日: 2022-06-21
• 發(fā)明（設計）人: 樓洪亮;邱振東
• 申請（專利權）人: 義烏工商職業(yè)技術學院
• 主分類號: B08B9/20
• 分類號: B08B9/20;B08B9/28;B08B13/00;F26B21/00;A21B3/16
• 代理公司: 浙江千克知識產權代理有限公司 33246
• 代理人: 王豐毅

1.一種烤盤清洗設備，包括：待清洗烤盤輸入端（1），以及設置在其下方的翻轉臺（2），以及設置在翻轉臺（2）下方的待清洗流轉臺（3），以及設置在待清洗流轉臺（3）相對一端的完成輸出端（4），其特征在于，還包括：設置在清洗流轉臺（3）和完成輸出端（4）之間的裝置本體（5），以及設置在裝置本體（5）一側的控制面板箱（6），以及設置在裝置本體（5）上方的升降負壓吸盤裝置（7），所述裝置本體（5）包括：設置在待清洗烤盤輸入端（1）一側的浸泡作業(yè)裝置（51），以及與其相鄰設置的清洗作業(yè)裝置（52），以及在清洗作業(yè)裝置（52）遠離浸泡作業(yè)裝置（51）一側，設置的設備間（53），以及與設備間（53）相鄰，遠離浸泡作業(yè)裝置（51）一側，設置的供水箱（54）；所述清洗作業(yè)裝置（52）設有往復擦抹機構（521），在往復擦抹機構（521）中設有潔凈液噴頭（522）以及高壓沖洗噴頭（523）以及風干噴嘴（524），能夠將待清洗烤盤，噴射潔凈液后，再進行同步前后和左右的往復擦抹，再進行清水沖洗，最后進行風干；

所述往復擦抹機構（521）包括：設置在清洗池（525）底部的若干軌道安裝座（5211），以及安裝在軌道安裝座（5211）上部的軌道（5212），以及與軌道（5212）滑動配合的若干軌道滑塊（5213），以及在軌道滑塊（5213）上設置的滑移底殼（5214），以及在滑移底殼（5214）上端部設置與其配合的滑移蓋板（5215），以及在滑移蓋板（5215）下底部外表面設置的往復機構（5216），以及在滑移蓋板（5215）上底部外表面，設置的安裝在往復機構（5216）上的擦抹海綿塊（5217），以及安裝在滑移底殼（5214）側邊外表面，為往復機構（5216）提供動力的第一驅動電機（5218）；所述擦抹海綿塊（5217）整體呈環(huán)形，所述潔凈液噴頭（522）安裝在擦抹海綿塊（5217）環(huán)形的中間空心位置，所述風干噴嘴（524）安裝在滑移蓋板（5215）上部外表面的中間位置、所述高壓沖洗噴頭（523）安裝在風干噴嘴（524）長度方向的兩側。

2.根據權利要求1所述的烤盤清洗設備，其特征在于，所述浸泡作業(yè)裝置（51）包括：浸泡池（511），以及設置在浸泡池（511）中的過濾板（512），以及設置在過濾板（512）上部的液位感應器（513），以及設置在過濾板（512）下部的下水管（514），以及在下水管（514）下部設置的電磁閥（515），所述電磁閥（515）能夠根據液位感應器（513）的信號反饋，通過控制面板箱（6）的執(zhí)行命令，執(zhí)行開閥和閉閥；所述清洗作業(yè)裝置（52），還包括：清洗池（525），以及設置在清洗池（525）上部的透明伸縮簾關門機構（526），以及在清洗池（525）池壁四個邊設置的，相互連接的烤盤置放墊板（527），所述清洗池（525）底部，靠近浸泡池（511）的一側設有匯聚口，該匯聚口下部為清洗水收集池（528），在該清洗水收集池（528）中設置潛水泵（5281），在該清洗水收集池（528）靠近浸泡池（511）的一側，設置連通內外池壁的電磁進水控制閥（5282）；所述設備間（53）包括：安裝在其內部的加熱器（531）、負壓發(fā)生器（532）、風機（533）、離心泵（534）。

3.根據權利要求1所述的烤盤清洗設備，其特征在于，所述升降負壓吸盤裝置（7）包括：裝置框架主體（71），以及安裝在裝置框架主體（71）上部的平移機構（72），以及設置在平移機構（72）上部的升降動力元件伸縮氣缸（73），以及設置在伸縮氣缸（73）下部的若干負壓吸盤裝置（74），以及為平移機構（72）傳遞平移動力的電機絲桿組件（75）；所述平移機構（72）其較短邊框下部的外表面設有定滑輪組（721），平移機構（72）中部位置下部的外表面設有安裝底板（722），該安裝底板（722）上部連接安裝伸縮氣缸（73），下部連接安裝負壓吸盤裝置（74）。