[發(fā)明專利]印制電路板及其制備方法、芯片及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110358745.5 | 申請日: | 2021-04-02 |
| 公開(公告)號: | CN112738987B | 公開(公告)日: | 2021-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王琎;張喆 | 申請(專利權(quán))人: | 成都齊碳科技有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02;H05K1/18;H05K3/10;H05K3/24 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 彭瓊 |
| 地址: | 610093 四川省成都市高新區(qū)*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 印制 電路板 及其 制備 方法 芯片 電子設(shè)備 | ||
本申請實施例的印制電路板及其制備方法、芯片及電子設(shè)備,印制電路板包括:基板;阻焊層,位于基板上,阻焊層具有第一開口;導(dǎo)線層,位于基板上及第一開口之中;電極層,位于導(dǎo)線層背離基板的一側(cè);絕緣層,位于電極層和阻焊層背離基板的一側(cè),絕緣層具有第二開口,以暴露電極層背離基板的第一表面。本申請實施例通過在電極層和阻焊層上設(shè)置絕緣層,該絕緣層可將裸露的導(dǎo)線層的金屬密封,使得導(dǎo)線層的金屬無法接觸到電解質(zhì)溶液,從而防止了電極與導(dǎo)線層的金屬形成原電池,進而消除了裸露的導(dǎo)線層的金屬對電極性能的影響,使得電極保持良好的電化學(xué)特性,延長了電極的壽命。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請屬于印制電路板技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種印制電路板及其制備方法、芯片及電子設(shè)備。
背景技術(shù)
印制電路板(Printed Circuit Board,PCB)是一種重要的電子部件,它是一些芯片的重要組成部分,同時也是電子元器件的支撐體,用以實現(xiàn)電子元器件的電氣連接。
隨著科技的發(fā)展,印制電路板的應(yīng)用越來越廣泛,例如印制電路板和包含印制電路板的芯片可以應(yīng)用在生物領(lǐng)域,用于檢測基因序列。然而,經(jīng)本申請的發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)印制電路板上的金屬電極處于液體環(huán)境(例如電解質(zhì)溶液)時,金屬電極會與印制電路板上的導(dǎo)線層的其他材料的金屬形成原電池,致使金屬電極的電化學(xué)特性變差、耐久性和壽命降低。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例提供了一種印制電路板及其制備方法、芯片及電子設(shè)備,能夠防止金屬電極與導(dǎo)線層的其他材料的金屬形成原電池,進而解決金屬電極的電化學(xué)特性變差、耐久性和壽命降低的問題。
第一方面,本申請實施例提供了一種印制電路板的制備方法,該制備方法包括:
提供基板;
在基板上形成導(dǎo)線層;
在導(dǎo)線層背離基板的一側(cè)形成電極層;
在基板上形成阻焊層,其中,導(dǎo)線層和電極層位于阻焊層上的第一開口之中;
在電極層和阻焊層背離基板的一側(cè)形成絕緣層,并在絕緣層上形成第二開口,以暴露電極層背離基板的第一表面。
在一些實施例中,在導(dǎo)線層背離基板的一側(cè)形成電極層之前,該制備方法還可以包括:
在導(dǎo)線層背離基板的一側(cè)形成金屬鍍層;
在導(dǎo)線層背離基板的一側(cè)形成電極層,具體可以包括:
在金屬鍍層背離基板的一側(cè)形成電極層。
第二方面,本申請實施例提供一種印制電路板,印制電路板包括:
基板;
阻焊層,位于基板上,阻焊層具有第一開口;
導(dǎo)線層,位于基板上及第一開口之中;
電極層,位于導(dǎo)線層背離基板的一側(cè);
絕緣層,位于電極層和阻焊層背離基板的一側(cè),絕緣層具有第二開口,以暴露電極層背離基板的第一表面。
在一些實施例中,印制電路板還可以包括:金屬鍍層,金屬鍍層位于導(dǎo)線層與電極層之間。
在一些實施例中,絕緣層可以為圖形化絕緣層。
在一些實施例中,圖形化絕緣層可以包括光敏油墨或干膜。
在一些實施例中,第二開口的數(shù)量為多個,多個第二開口在絕緣層上均勻排列。
在一些實施例中,印制電路板還可以包括:
多個金屬觸點,位于基板背離絕緣層的一側(cè);
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于成都齊碳科技有限公司,未經(jīng)成都齊碳科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110358745.5/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





