[發(fā)明專利]一種桌面型納米壓印設(shè)備及其壓印方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110356969.2
• 申請(qǐng)日: 2021-04-01
• 公開（公告）號(hào): CN113075860B
• 公開（公告）日: 2023-07-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 冀然
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
• 主分類號(hào): G03F7/00
• 分類號(hào): G03F7/00;G03F7/20;G03F7/16
• 代理公司: 山東重諾律師事務(wù)所 37228
• 代理人: 王鵬里

本發(fā)明提出一種桌面型納米壓印設(shè)備，包括：吸盤，支撐裝置，其設(shè)置有兩個(gè)，分別位于吸盤的左側(cè)及右側(cè)；滴膠裝置，其位于左側(cè)支撐裝置與吸盤之間；涂布裝置，具有可伸縮的涂布?jí)K，通過涂布?jí)K的伸縮涂布膠液；固定裝置，用于固定PET；壓印曝光裝置，具有可伸縮的壓印頭，并向第二固定裝置的方向伸縮，壓印頭上具有透光區(qū)以及與透光區(qū)對(duì)應(yīng)的紫外燈。一種桌面型納米壓印設(shè)備的壓印方法，包括以下步驟：S1：上料；S2：點(diǎn)膠；S3：涂布；S4：壓印；S5：脫模。本發(fā)明不僅能夠自動(dòng)點(diǎn)膠、涂布、壓印曝光以及脫模，無需人工干預(yù)，且壓印過程中產(chǎn)生無氣泡產(chǎn)生，自動(dòng)化程度高。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于桌面型納米壓印設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種桌面型納米壓印設(shè)備及其壓印方法。

背景技術(shù)

納米壓印技術(shù)是一種桌面型微納加工技術(shù)，該技術(shù)通過機(jī)械轉(zhuǎn)移的手段，達(dá)到了超高的分辨率，有望在未來取代傳統(tǒng)的光刻技術(shù)，成為微電子、材料領(lǐng)域的重要加工手段。由于單晶直拉法等工藝，基片一般為圓形，在點(diǎn)膠壓印時(shí)，將膠體點(diǎn)在基片中心處，PET置于基片上方，基片和PET慢慢靠近，滴加在基片中心的膠體以基片中心為圓心，呈圓餅狀慢慢擴(kuò)大直至整個(gè)基片均涂布膠體，溢出的膠體可以通過控制點(diǎn)膠量和PET與基片的距離控制。

當(dāng)在壓印方形基片時(shí)，將膠體點(diǎn)在方形基片中心處，通過上、下壓印，膠體呈圓餅狀慢慢從基片中心向外擴(kuò)展，若點(diǎn)膠量太少，方形基片四角處無膠體。如果增加點(diǎn)膠量，則溢出的膠體會(huì)從基片四周溢出，導(dǎo)致基片在固化后無法從吸盤上取下。而采用旋涂方式時(shí)，在方形基片的中心點(diǎn)膠量太少，方形基片的四角無法旋涂商膠體。點(diǎn)膠量太多增加生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對(duì)上述的技術(shù)問題，提出一種桌面型納米壓印設(shè)備及其壓印方法，用于方形基片的壓印，不僅能夠自動(dòng)點(diǎn)膠、涂布、壓印曝光以及脫模，無需人工干預(yù)，且壓印過程中產(chǎn)生無氣泡產(chǎn)生，自動(dòng)化程度高。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用的技術(shù)方案為：一種桌面型納米壓印設(shè)備，包括：

吸盤，所述吸盤可升降，且在吸盤的上表面設(shè)置有真空槽，與所述真空槽連接有真空發(fā)生裝置，以在吸盤上表面形成負(fù)壓，用于吸附基片；

支撐裝置，其設(shè)置有兩個(gè)，分別位于所述吸盤的左側(cè)及右側(cè)，其中，左側(cè)支撐裝置上連接有可升降的第一升降塊，右側(cè)支撐裝置上連接有可升降的第二升降塊和第三升降塊，所述左側(cè)支撐裝置以及右側(cè)支撐裝置上分別設(shè)置有兩限位塊，以相應(yīng)的限位第一升降塊、第二升降塊以及第三升降塊的升降位置；

滴膠裝置，其位于左側(cè)支撐裝置與吸盤之間，所述滴膠裝置包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，以及與所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)連接有可轉(zhuǎn)動(dòng)的滴膠嘴組件，所述滴膠嘴組件轉(zhuǎn)動(dòng)至工作位置后，并通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)移動(dòng)，可向基片的不同位置滴膠；

涂布裝置，與所述第三升降塊連接，所述涂布裝置具有可伸縮的涂布?jí)K，涂布?jí)K的寬度大于基片的寬度，以在所述基片上滴膠后，通過涂布?jí)K的伸縮涂布膠液；

固定裝置，用于固定PET，包括連接于所述左側(cè)支撐裝置上的第一固定裝置，以及連接于所述第二升降塊上的第二固定裝置，用于固定PET的兩端，且所述第二固定裝置的高度位于第一固定裝置以上；

壓印曝光裝置，其與第一升降塊連接，壓印曝光裝置具有可伸縮的壓印頭，壓印頭可與PET上表面相抵，并向第二固定裝置的方向伸縮，所述壓印頭上具有透光區(qū)以及與透光區(qū)對(duì)應(yīng)的紫外燈。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述真空發(fā)生裝置包括設(shè)置于真空槽內(nèi)的真空孔以及與真空孔連接的真空泵。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述左側(cè)支撐裝置以及右側(cè)支撐裝置均為支撐桿，所述第一升降塊、第二升降塊、第三升降塊均為升降電機(jī)，所述第一升降塊位于所述第一固定裝置上方，所述第二升降塊位于所述第三升降塊的下方。

在本發(fā)明的一些實(shí)施例中，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)為滑軌，所述滴膠嘴組件包括連接于滑軌上的旋轉(zhuǎn)電機(jī)，與旋轉(zhuǎn)電機(jī)連接的剛性膠管，以及連接于膠管兩管口上的膠嘴以及膠瓶。