[發(fā)明專利]彩膜缺陷的測(cè)高方法、設(shè)備及介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110353627.5
• 申請(qǐng)日: 2021-03-31
• 公開（公告）號(hào): CN112904605B
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郭號(hào);陳翔;袁海江
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長(zhǎng)沙惠科光電有限公司;惠科股份有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13
• 代理公司: 深圳市世紀(jì)恒程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 44287
• 代理人: 晏波

1.一種彩膜缺陷的測(cè)高方法，其特征在于，所述彩膜缺陷的測(cè)高方法包括以下步驟：

獲取缺陷區(qū)域?qū)?yīng)的缺陷標(biāo)識(shí)，其中，所述缺陷標(biāo)識(shí)根據(jù)缺陷區(qū)域面積以及缺陷區(qū)域的中心坐標(biāo)信息確定，所述缺陷標(biāo)識(shí)為缺陷編碼，不同的所述缺陷標(biāo)識(shí)對(duì)應(yīng)不同的缺陷區(qū)域面積以及缺陷區(qū)域的中心坐標(biāo)信息；

根據(jù)所述缺陷標(biāo)識(shí)與測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)之間的映射關(guān)系表和所述缺陷標(biāo)識(shí)，調(diào)整所述缺陷區(qū)域的測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)，所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)包括與測(cè)高行徑方向平行的第一測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)以及與所述測(cè)高行徑方向垂直的第二測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)，所述測(cè)高行徑方向?yàn)闇y(cè)高傳感器刮過的方向；

根據(jù)所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)以及缺陷區(qū)域中心坐標(biāo)信息確定測(cè)高基準(zhǔn)面，所述測(cè)高傳感器根據(jù)所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)劃過所述缺陷區(qū)域的中心，劃過的部分為缺陷區(qū)域的測(cè)高區(qū)域，所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)之外的區(qū)域?yàn)闇y(cè)高基準(zhǔn)面；

獲取所述測(cè)高基準(zhǔn)面的平均高度以及所述缺陷區(qū)域的最高高度，將所述缺陷區(qū)域的最高高度以及所述測(cè)高基準(zhǔn)面的平均高度相減得到缺陷區(qū)域高度。

2.如權(quán)利要求1所述的彩膜缺陷的測(cè)高方法，其特征在于，所述獲取缺陷區(qū)域?qū)?yīng)的缺陷標(biāo)識(shí)的步驟，之前還包括：

獲取所述缺陷區(qū)域的面積信息以及所述缺陷區(qū)域的中心坐標(biāo)信息；

根據(jù)所述缺陷區(qū)域的面積信息以及所述缺陷區(qū)域的中心坐標(biāo)信息確定缺陷標(biāo)識(shí)，保存所述缺陷標(biāo)識(shí)；

關(guān)聯(lián)所述缺陷標(biāo)識(shí)與所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)；

其中，在接收到測(cè)高指令時(shí)，獲取所述缺陷區(qū)域?qū)?yīng)的缺陷標(biāo)識(shí)。

3.如權(quán)利要求1所述的彩膜缺陷的測(cè)高方法，其特征在于，所述根據(jù)所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)以及缺陷區(qū)域中心坐標(biāo)信息確定測(cè)高基準(zhǔn)面的步驟包括：

根據(jù)所述測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)以及缺陷區(qū)域中心坐標(biāo)信息確定所述缺陷區(qū)域的測(cè)高區(qū)域，其中，所述缺陷區(qū)域的測(cè)高區(qū)域是以所述缺陷區(qū)域的中心坐標(biāo)信息為中心以所述第一測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)以及所述第二測(cè)高補(bǔ)償參數(shù)為邊長(zhǎng)所圍成的矩形區(qū)域；

根據(jù)所述缺陷區(qū)域的測(cè)高區(qū)域確定所述測(cè)高基準(zhǔn)面，其中，所述測(cè)高基準(zhǔn)面為缺陷區(qū)域的測(cè)高區(qū)域之外的區(qū)域。

4.如權(quán)利要求1所述的彩膜缺陷的測(cè)高方法，其特征在于，所述獲取所述測(cè)高基準(zhǔn)面的平均高度包括：

獲取預(yù)設(shè)測(cè)高間距以及預(yù)設(shè)測(cè)高路徑；

根據(jù)所述預(yù)設(shè)測(cè)高間距以及預(yù)設(shè)測(cè)高路徑對(duì)所述測(cè)高基準(zhǔn)面進(jìn)行測(cè)高以確定所述測(cè)高基準(zhǔn)面的平均高度。

5.一種彩膜缺陷的測(cè)高設(shè)備，其特征在于，所述彩膜缺陷的測(cè)高設(shè)備包括存儲(chǔ)器、處理器以及存儲(chǔ)在所述存儲(chǔ)器并可在所述處理器上運(yùn)行的彩膜缺陷的測(cè)高程序，所述彩膜缺陷的測(cè)高程序被所述處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的彩膜缺陷的測(cè)高方法。

6.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有彩膜缺陷的測(cè)高程序，所述彩膜缺陷的測(cè)高程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的彩膜缺陷的測(cè)高方法。