[發(fā)明專利]測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量方法及曝光裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110353528.7 | 申請(qǐng)日: | 2015-12-22 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113093484A | 公開(公告)日: | 2021-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 上田哲寬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社尼康 |
| 主分類號(hào): | G03F9/00 | 分類號(hào): | G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 陳偉;閆劍平 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測(cè)量 系統(tǒng) 測(cè)量方法 曝光 裝置 | ||
移動(dòng)體的控制方法,包含:使能夠在XY平面內(nèi)移動(dòng)的移動(dòng)體(22)沿Y軸方向移動(dòng),同時(shí)一邊使從標(biāo)記檢測(cè)系統(tǒng)(50)照射的測(cè)量束相對(duì)于載置于該移動(dòng)體(22)的晶圓(W)上設(shè)置的多個(gè)格子標(biāo)記的中的一部分格子標(biāo)記沿Y軸方向掃描,一邊檢測(cè)該一部分格子標(biāo)記的工序;測(cè)量在一部分格子標(biāo)記上的測(cè)量束的照射位置的工序;以及基于照射位置的測(cè)量結(jié)果使測(cè)量束和移動(dòng)體(22)在X軸方向相對(duì)移動(dòng),并且一邊使測(cè)量光沿Y軸方向掃描一邊檢測(cè)其它格子標(biāo)記的工序。
本發(fā)明申請(qǐng)是國(guó)際申請(qǐng)日為2015年12月22日、國(guó)際申請(qǐng)?zhí)枮镻CT/JP2015/085850、進(jìn)入中國(guó)國(guó)家階段的國(guó)家申請(qǐng)?zhí)枮?01580076893.0、發(fā)明名稱為“移動(dòng)體的控制方法、曝光方法、器件制造方法、移動(dòng)體裝置及曝光裝置”的發(fā)明申請(qǐng)的分案申請(qǐng)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及移動(dòng)體的控制方法、曝光方法、器件制造方法、曝光裝置,更詳細(xì)而言,涉及載置設(shè)置有多個(gè)標(biāo)記的物體的移動(dòng)體的控制方法、包含上述移動(dòng)體的控制方法在內(nèi)的曝光方法、使用了上述曝光方法的器件制造方法、包含載置設(shè)置有多個(gè)標(biāo)記的物體的移動(dòng)體的移動(dòng)體裝置、及具備上述移動(dòng)體裝置的曝光裝置。
背景技術(shù)
目前,在制造半導(dǎo)體元件(集成電路等)、液晶顯示元件等電子器件(微型器件)的光刻工序中,使用步進(jìn)掃描方式的投影曝光裝置(所謂掃描步進(jìn)機(jī)(也稱為掃描儀))等。
在這種曝光裝置中,由于例如在晶圓或玻璃板(以下統(tǒng)稱為“晶圓”)上重疊形成有多層圖案,所以進(jìn)行用于使已形成于晶圓上的圖案和光罩或標(biāo)線片(以下統(tǒng)稱為“標(biāo)線片”)所具有的圖案成為最佳的相對(duì)位置關(guān)系的操作(所謂對(duì)準(zhǔn))。另外,作為在這種對(duì)準(zhǔn)中使用的對(duì)準(zhǔn)傳感器,已知有通過使測(cè)量光相對(duì)于設(shè)置于晶圓上的格子標(biāo)記進(jìn)行掃描(追隨晶圓W的移動(dòng))能夠迅速地進(jìn)行該格子標(biāo)記的檢測(cè)的系統(tǒng)(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
在此,為了提高重疊精度也期望進(jìn)行多次格子標(biāo)記的位置測(cè)量,具體而言,期望準(zhǔn)確且高速地進(jìn)行設(shè)定于晶圓上的所有照射區(qū)域的格子標(biāo)記的位置測(cè)量。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:美國(guó)專利第8593646號(hào)說明書
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)第一方面,提供一種移動(dòng)體的控制方法,包含:使移動(dòng)體沿第一軸的方向移動(dòng),同時(shí)一邊使從標(biāo)記檢測(cè)系統(tǒng)照射的測(cè)量光相對(duì)于載置于所述移動(dòng)體的物體上設(shè)置的多個(gè)標(biāo)記的中的第一標(biāo)記沿所述第一軸的方向掃描,一邊檢測(cè)所述第一標(biāo)記;測(cè)量所述第一標(biāo)記與所述測(cè)量光之間的位置關(guān)系;以及基于測(cè)量出的所述位置關(guān)系,調(diào)整在與所述第一軸交叉的第二軸的方向上的所述測(cè)量光與所述移動(dòng)體之間的相對(duì)位置。
根據(jù)第二方面,提供一種曝光方法,包含:利用第一方面的移動(dòng)體的控制方法控制供設(shè)置有多個(gè)標(biāo)記的物體載置的所述移動(dòng)體;以及基于所述多個(gè)標(biāo)記的檢測(cè)結(jié)果控制所述移動(dòng)體的在包含所述第一軸及所述第二軸的二維平面內(nèi)的位置,同時(shí)對(duì)所述物體使用能量束來形成規(guī)定圖案。
根據(jù)第三方面,提供一種器件制造方法,包含:使用第二方面的曝光方法對(duì)基板進(jìn)行曝光;以及將曝光后的所述基板顯影。
根據(jù)第四方面,提供一種移動(dòng)體裝置,其具備:移動(dòng)體,其能夠在包含第一軸及與所述第一軸交叉的第二軸的二維平面內(nèi)移動(dòng);標(biāo)記檢測(cè)系統(tǒng),其使測(cè)量光相對(duì)于在載置于所述移動(dòng)體的物體上設(shè)置的多個(gè)標(biāo)記沿所述第一軸的方向掃描;以及控制系統(tǒng),其使所述移動(dòng)體沿所述第一軸的方向移動(dòng),同時(shí)使用所述標(biāo)記檢測(cè)系統(tǒng)進(jìn)行所述標(biāo)記的檢測(cè),所述控制系統(tǒng)檢測(cè)所述多個(gè)標(biāo)記中的第一標(biāo)記,并且測(cè)量所述第一標(biāo)記與所述測(cè)量光之間的位置關(guān)系,基于測(cè)量出的所述位置關(guān)系來調(diào)整在與所述第一軸交叉的第二軸的方向上的所述測(cè)量光與所述移動(dòng)體的相對(duì)位置。
根據(jù)第五方面,提供一種曝光裝置,其包含:第四方面的移動(dòng)體裝置,其在所述移動(dòng)體上載置有設(shè)置有多個(gè)標(biāo)記的物體;以及圖案形成裝置,其對(duì)基于所述多個(gè)標(biāo)記的檢測(cè)結(jié)果而被控制所述二維平面內(nèi)的位置的載置在所述移動(dòng)體上的所述物體利用能量束,形成規(guī)定的圖案。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社尼康,未經(jīng)株式會(huì)社尼康許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202110353528.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種留置導(dǎo)管用保護(hù)裝置
- 下一篇:一種用于輔助排痰的治療頭
- 測(cè)量設(shè)備、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量配件和測(cè)量方法
- 測(cè)量尺的測(cè)量組件及測(cè)量尺
- 測(cè)量輔助裝置、測(cè)量裝置和測(cè)量系統(tǒng)
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量觸頭、測(cè)量組件和測(cè)量裝置
- 測(cè)量容器、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)、測(cè)量程序以及測(cè)量方法
- 測(cè)量裝置、測(cè)量系統(tǒng)及測(cè)量方法
- 測(cè)量電路、測(cè)量方法及測(cè)量設(shè)備
- 一種對(duì)H型鋼形位變形量的測(cè)量裝置及其測(cè)量方法
- 用于測(cè)量電容的方法
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 一種長(zhǎng)波ASF測(cè)量方法
- 輸電桿塔基礎(chǔ)地基破裂面的簡(jiǎn)易測(cè)量方法
- 墨滴體積的校準(zhǔn)方法及其校準(zhǔn)系統(tǒng)、打印設(shè)備
- 車距測(cè)量方法及裝置、車輛相對(duì)速度測(cè)量方法及裝置
- 金屬鍍層厚度的測(cè)量方法
- 聲波測(cè)量裝置及聲波測(cè)量裝置的工作方法
- 一種鋼-混組合結(jié)構(gòu)相對(duì)滑移量測(cè)量裝置及測(cè)量方法





