[發明專利]測量系統、測量方法及曝光裝置

在審

• 申請號: 202110353528.7
• 申請日: 2015-12-22
• 公開（公告）號: CN113093484A
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 上田哲寬
• 申請（專利權）人: 株式會社尼康
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20;H01L21/68;H01L21/027
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 陳偉;閆劍平

1.一種測量系統，其特征在于，具備：

能夠在包括第一軸和與所述第一軸交叉的第二軸的二維平面內移動的移動體，在所述移動體上載置有物體；

標記檢測系統，其能夠相對于載置在所述移動體上的所述物體的標記沿所述第一軸的方向掃描測量光，并且能夠接受來自所述標記的光束；以及

控制系統，其利用所述標記檢測系統執行對所述物體的所述標記的檢測，

所述控制系統一邊使所述移動體在所述第一軸的方向上移動，一邊利用所述標記檢測系統相對于所述物體的所述標記沿所述第一軸的方向掃描所述測量光，

所述控制系統基于利用所述標記檢測系統接受來自所述標記的所述光束的結果，檢測所述標記并且測量所述標記與所述測量光之間的位置關系，

所述控制系統基于測量出的所述位置關系，執行對所述移動體與所述測量光之間的相對位置的調整。

2.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，

所述物體所具有的所述標記作為第一標記，所述物體還具有與所述第一標記不同的第二標記，

所述控制系統執行對所述相對位置的調整，一邊使所述移動體在所述第一軸的方向上移動，一邊檢測所述第二標記。

3.根據權利要求2所述的測量系統，其特征在于，

所述第二標記是在檢測到所述第一標記之后檢測的標記。

4.根據權利要求2所述的測量系統，其特征在于，

所述第一標記包括兩個以上的標記，

所述控制系統獲取所述兩個以上的標記的每一個的位置偏移量，并且基于所述位置偏移量，執行對所述移動體與所述測量光之間的所述相對位置的調整。

5.根據權利要求3所述的測量系統，其特征在于，

所述第一標記包括兩個以上的標記，

所述控制系統獲取所述兩個以上的標記的每一個的位置偏移量，并且基于所述位置偏移量，執行對所述移動體與所述測量光之間的所述相對位置的調整。

6.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，

對所述相對位置的調整包括對在所述第二軸的方向上的所述相對位置進行的調整。

7.根據權利要求4所述的測量系統，其特征在于，

對所述相對位置的調整包括對在所述第二軸的方向上的所述相對位置進行的調整。

8.根據權利要求5所述的測量系統，其特征在于，

對所述相對位置的調整包括對在所述第二軸的方向上的所述相對位置進行的調整。

9.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，

還具備位置測量系統，該位置測量系統能夠測量在所述二維平面內的所述移動體的位置信息，

所述控制系統利用所述位置測量系統以及所述標記檢測系統檢測所述標記的位置信息。

10.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，

所述標記檢測系統能夠檢測照射到所述標記上的所述測量光，

所述控制系統基于所述測量光的檢測結果，獲取所述標記與所述測量光之間的所述位置關系。

11.一種曝光裝置，其特征在于，

包括權利要求1所述的測量系統，在所述測量系統中，帶有標記的物體載置在所述移動體上，通過對載置在所述移動體上的所述物體照射能量束來對其進行曝光。