[發(fā)明專利]基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型及其構(gòu)建與應(yīng)用有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110353356.3 | 申請(qǐng)日: | 2021-04-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112899238B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周君;劉曉敏;甘銜清;王申 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)藥科大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C12N5/10 | 分類號(hào): | C12N5/10;C12N15/85;C12N15/113;C12N15/65;C12N15/66;C12Q1/02;G01N21/64 |
| 代理公司: | 南京天華專利代理有限責(zé)任公司 32218 | 代理人: | 競(jìng)存;徐冬濤 |
| 地址: | 210009*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 rna m6a 修飾 水平 化合物 篩選 細(xì)胞 模型 及其 構(gòu)建 應(yīng)用 | ||
1.一種基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型的構(gòu)建方法,其特征在于,所述構(gòu)建方法包括以下步驟:
(1)構(gòu)建攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體:將ADGRE5基因的3’?UTR區(qū)域插入EGFP-C1報(bào)告載體的EGFP序列后的多克隆位點(diǎn)中,獲得攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體;
(2)構(gòu)建基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型:將(1)構(gòu)建的攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體轉(zhuǎn)染HEK-293細(xì)胞,用G418硫酸鹽篩選具有新霉素抗性的細(xì)胞株,再通過(guò)稀釋法獲取篩選模型單克隆細(xì)胞株,所述單克隆細(xì)胞株即基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型;
步驟(1)中所述ADGRE5的3’?UTR區(qū)域序列是以HEK-293細(xì)胞的cDNA為模板,通過(guò)PCR技術(shù),使用特異性引物擴(kuò)增得到的;所述特異性引物為:
hADGRE5-F:5’-?GGAATTCGGCATCAGAGTCCGGCAT-3’,
hADGRE5-R:5’-?CGCGGATCCACAACGTCTACAACCTTCAC-3’;
步驟(1)中所述ADGRE5基因的3’UTR區(qū)域核苷酸序列如SEQ?ID?NO.2?所示,所述攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體的核苷酸序列如SEQ?ID?NO.1?所示。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)建方法,其特征在于,所述步驟(1)具體操作為:
(1-1)采用EGFP-C1載體序列上的BamH?I和EcoR?I多克隆位點(diǎn),并用BamH?I和EcoR?I限制性內(nèi)切酶對(duì)擴(kuò)增后的ADGRE5基因片段兩端進(jìn)行雙酶切,獲得具BamH?I和EcoR?I粘性末端的ADGRE5基因的3’?UTR片段;
(1-2)用BamH?I和EcoR?I限制性內(nèi)切酶對(duì)EGFP-C1載體進(jìn)行雙酶切,回收EGFP-C1載體酶切產(chǎn)物;
(1-3)連接擴(kuò)增產(chǎn)物和EGFP-C1載體酶切產(chǎn)物,獲得攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的構(gòu)建方法,其特征在于,步驟(2)的具體操作為:
(2-1)轉(zhuǎn)染HEK-293細(xì)胞:取兩份等量的Opti-MEM培養(yǎng)基,一份與(1)構(gòu)建的攜帶m6A修飾基序的表達(dá)載體以5?μg/ml的濃度混合,另一份與Lipofectamine?2000以10?μl?/μl的濃度混合,將兩份混合產(chǎn)物充分混勻,加入貼壁培養(yǎng)HEK-293細(xì)胞的細(xì)胞培養(yǎng)皿中轉(zhuǎn)染4小時(shí),換成體積百分比為10?%的胎牛血清的完全DMEM培養(yǎng)基繼續(xù)培養(yǎng),36-48小時(shí)后觀察細(xì)胞熒光;
(2-2)用G418硫酸鹽進(jìn)行細(xì)胞篩選:在轉(zhuǎn)染HEK-293細(xì)胞48小時(shí)后加入含800?ng/μlG418硫酸鹽溶液的完全培養(yǎng)基,連續(xù)篩選至細(xì)胞不發(fā)生大量死亡;
(2-3)獲取單克隆細(xì)胞:將(2-2)中的含800?ng/μl?G418硫酸鹽溶液的完全培養(yǎng)基換成含400?ng/μl?G418硫酸鹽溶液的完全培養(yǎng)基進(jìn)行培養(yǎng),將細(xì)胞株用培養(yǎng)基稀釋并種到96孔細(xì)胞培養(yǎng)盤(pán)中,確保每孔僅含有1個(gè)細(xì)胞,待培養(yǎng)兩周后,單個(gè)細(xì)胞長(zhǎng)至一團(tuán)細(xì)胞,將具有熒光的單克隆擴(kuò)大培養(yǎng)并保存,即為篩選模型的單克隆細(xì)胞株。
4.一種基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型,其特征在于,所述基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型是通過(guò)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的構(gòu)建方法構(gòu)建得到的。
5.權(quán)利要求4所述的基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型在篩選影響m6A修飾水平的化合物中的應(yīng)用。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用,其特征在于,將待篩選化合物與所述細(xì)胞模型混合后,檢測(cè)細(xì)胞熒光強(qiáng)度,如細(xì)胞熒光強(qiáng)度有變化,則所述待篩選化合物為對(duì)m6A修飾水平有影響的化合物。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用,其特征在于,所述應(yīng)用包括以下步驟:
向細(xì)胞培養(yǎng)皿中加入DMEM培養(yǎng)基,所述DMEM培養(yǎng)基的加入量為1.5?ml?DMEM培養(yǎng)基/3.5?cm細(xì)胞培養(yǎng)皿,將所述基于RNA-m6A修飾水平的化合物篩選細(xì)胞模型以4×105個(gè)細(xì)胞/3.5?cm細(xì)胞培養(yǎng)皿的比例接種,培養(yǎng)至細(xì)胞匯合度達(dá)到60?%;
向培養(yǎng)基中加入待篩選化合物,所述待篩選化合物的加入量為0.1-1.5?μl/3.5?cm細(xì)胞培養(yǎng)皿,繼續(xù)培養(yǎng)40小時(shí);
培養(yǎng)結(jié)束后,收集細(xì)胞并使用PBS緩沖液清洗,再加入200?μl?RIPA細(xì)胞裂解液,裂解15分鐘后,加入RIPA裂解液兩倍體積的50?mM?Tris-Hcl,充分混勻,所述50?mM?Tris-Hcl?的pH=10.0;
按照每孔80?μl體積將步驟(3)的混合產(chǎn)物加入到無(wú)蓋的96孔酶標(biāo)板中,采用酶標(biāo)儀對(duì)酶標(biāo)板進(jìn)行數(shù)據(jù)采集,通用檢測(cè)波長(zhǎng)為激發(fā)波長(zhǎng)479?nm,發(fā)射波長(zhǎng)520?nm。
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