[發(fā)明專利]一種不溶性陽極及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110351800.8 | 申請日： | 2021-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN113174595A | 公開（公告）日： | 2021-07-27 |
| 發(fā)明（設計）人： | 江德馨;劉鵬 | 申請（專利權）人： | 東莞市琢器機械設備科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C28/02 | 分類號： | C23C28/02;C23C18/32;C23C18/42;C23C14/16;C23C14/35;C25B1/34;C25B11/031;C25B11/053;C25B11/061;C25B11/097 |
| 代理公司： | 東莞市神州眾達專利商標事務所(普通合伙) 44251 | 代理人： | 朱俊杰 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 不溶性 陽極 及其 制備 方法 | ||
1.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2：在第一層上采用化學鍍沉金，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
2.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2：在第一層上采用化學沉鈀，形成第二層；
S3：在第二層上采用化學沉金，形成第三層；
S4：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第三層上，形成第四層。
3.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2：在第一層上，在真空的條件下，通過磁控濺射，將鎳和釩的等離子濺射在第一層上，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
4.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2：在第一層上采用化學鍍沉鉑金族一種或者兩種金屬，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
5.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用電鍍在銅網(wǎng)基材電鍍鎳，形成第一層；
S2：在第一層上，采用電鍍鍍金，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
6.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用電鍍在銅網(wǎng)基材電鍍鎳，形成第一層；
S2：在第一層上，采用化學鍍沉金，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
7.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用電鍍在銅網(wǎng)基材電鍍鎳，形成第一層；
S2：在第一層上，采用化學鍍沉積鉑金族一種或者兩種金屬，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
8.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2:在第一層上，在真空的條件下，通過磁控濺射，將金的等離子濺射在第一層上，形成第二層；
S3：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第二層上，形成第三層。
9.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2:在第一層上，在真空的條件下，通過磁控濺射，將金的等離子濺射在第一層上，形成第二層。
10.一種不溶性陽極的制備方法，其特征在于，其制備具體步驟如下：
S1：以銅網(wǎng)作為基材，采用化學鍍在銅網(wǎng)基材沉鎳，形成第一層；
S2：在真空的條件下，通過磁控濺射，將鉑金族一種或者兩種金屬在高壓條件下，尖端放電打擊，激發(fā)出鉑金族金屬的等離子濺射在第一層上，形成第二層。
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