[發(fā)明專利]蒸鍍掩膜的制造裝置以及制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202110344384.9
• 申請日: 2021-03-30
• 公開（公告）號: CN113493894A
• 公開（公告）日: 2021-10-12
• 發(fā)明（設計）人: 山田哲行
• 申請（專利權）人: 株式會社日本顯示器
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/24;C25D1/10;C25D1/20;C23C14/34;C23C14/14
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍;李文嶼

本發(fā)明提供品質穩(wěn)定的蒸鍍掩膜的制造裝置及蒸鍍掩膜的制造方法。并且提升作業(yè)者的作業(yè)效率。蒸鍍掩膜的制造裝置，包括：設置結構體的工作臺，所述結構體設有蒸鍍掩膜和與蒸鍍掩膜相接的金屬層；和從蒸鍍掩膜將金屬層剝離并進行卷繞的旋轉輥。另外，蒸鍍掩膜的制造方法包括：在設有蒸鍍掩膜和與蒸鍍掩膜相接的金屬層的結構體中，一邊用旋轉輥卷繞金屬層，一邊使旋轉輥沿著與結構體的一邊大致平行的第1方向移動，從蒸鍍掩膜將金屬層剝離。

技術領域

本發(fā)明涉及蒸鍍掩膜的制造裝置以及制造方法。尤其是，本發(fā)明涉及在掩膜框架具備薄膜狀的掩膜主體的蒸鍍掩膜的制造裝置以及制造方法。

背景技術

作為平板型顯示裝置的一例，可舉出液晶顯示裝置、有機EL(Eectroluminescence，電致發(fā)光)顯示裝置。這些顯示裝置是包含絕緣體、半導體、導體等各種材料的薄膜層疊于基板上而成的結構體。這些薄膜被適當?shù)貓D案化并進行連接，從而實現(xiàn)作為顯示裝置的功能。

形成薄膜的方法大體分為氣相法、液相法、以及固相法。氣相法分類為物理氣相法以及化學氣相法。作為物理氣相法的代表性例子例已知有蒸鍍法。蒸鍍法中作為簡便的方法是真空蒸鍍法。真空蒸鍍法通過在高真空下對材料進行加熱，從而使材料升華或蒸發(fā)而形成材料的蒸氣(以下將這些總稱為氣化)。在用于使該材料沉積的區(qū)域(以下稱為蒸鍍區(qū)域)中，氣化了的材料固化并沉積從而得到材料的薄膜。為了對蒸鍍區(qū)域選擇性地形成薄膜、而在除此之外的區(qū)域(以下稱為非蒸鍍區(qū)域)不沉積材料，使用掩膜(蒸鍍掩膜)進行真空蒸鍍(參照專利文獻1以及專利文獻2)。

現(xiàn)有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2009－87840號公報

專利文獻2：日本特開2013－209710號公報

發(fā)明內容

發(fā)明所要解決的課題

蒸鍍掩膜中，在形成有蒸鍍圖案的掩膜主體接合有用于固定掩膜主體的掩膜框架。使用鍍敷處理而將掩膜主體形成在金屬層上，但是在將掩膜主體與掩膜框架接合之后，需要從掩膜主體將金屬層剝離。就金屬層的剝離而言，多是通過作業(yè)者的手工作業(yè)來進行，由于作業(yè)者的熟練度的不同而蒸鍍掩膜的品質參差不均。具體而言，由于金屬層的不均勻的剝離，出現(xiàn)薄膜狀的掩膜主體產生變形、蒸鍍掩膜的蒸鍍圖案的位置發(fā)生偏離的問題。另外，作業(yè)時間因作業(yè)者而異，但也存在手工作業(yè)的金屬層剝離比較而言作業(yè)時間長這一問題。

本發(fā)明鑒于上述問題，以提供品質穩(wěn)定的蒸鍍掩膜的制造裝置為課題之一。另外，以提升作業(yè)者的作業(yè)效率為課題之一。

用于解決課題的手段

本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造裝置包括：設置結構體的工作臺，所述結構體設有蒸鍍掩膜和與蒸鍍掩膜相接的金屬層；和從蒸鍍掩膜將金屬層剝離并進行卷繞的旋轉輥。

本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法包括：在設有蒸鍍掩膜和與蒸鍍掩膜相接的金屬層的結構體中，一邊用旋轉輥對金屬層進行卷繞，一邊使旋轉輥沿著與結構體的一邊大致平行的第1方向移動，從蒸鍍掩膜將金屬層剝離。

附圖說明

圖1A是本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的俯視圖。

圖1B是本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的剖視圖。

圖2A是示出本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法的剖視圖。

圖2B是示出本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法的剖視圖。

圖2C是示出本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法的剖視圖。

圖2D是示出本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法的剖視圖。

圖2E是示出本發(fā)明的一實施方式的蒸鍍掩膜的制造方法的剖視圖。