[發(fā)明專利]納秒刀校準(zhǔn)方法及裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110343557.5 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115137470A | 公開(公告)日: | 2022-10-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 巫彤寧;楊蕾;姜昊宇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)信息通信研究院 |
| 主分類號(hào): | A61B18/12 | 分類號(hào): | A61B18/12 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 侯天印;郝博 |
| 地址: | 100191 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納秒刀 校準(zhǔn) 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種納秒刀校準(zhǔn)方法及裝置,涉及納秒刀技術(shù)領(lǐng)域,該方法包括:利用電場(chǎng)探頭獲取目標(biāo)容器內(nèi)介質(zhì)的電場(chǎng)數(shù)據(jù);電場(chǎng)數(shù)據(jù)由納秒刀發(fā)送至目標(biāo)容器內(nèi);根據(jù)電場(chǎng)數(shù)據(jù)生成納秒刀的電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù);根據(jù)電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù)和預(yù)設(shè)校準(zhǔn)范圍確定納秒刀校準(zhǔn)結(jié)果。本發(fā)明實(shí)施例可以對(duì)納秒刀進(jìn)行校準(zhǔn),以便篩選符合精準(zhǔn)度要求的納秒刀。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及納秒刀技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種納秒刀校準(zhǔn)方法及裝置。
背景技術(shù)
癌癥是當(dāng)前人類死亡的第二大原因,全球近六分之一的死亡都是由癌癥引起的。現(xiàn)在相對(duì)應(yīng)的癌癥治療技術(shù)中,微創(chuàng)腫瘤消融治療由于其創(chuàng)傷小,快速準(zhǔn)確消除腫瘤以及可重復(fù)性強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),逐漸成為臨床患者青睞的治療方法。隨著全球范圍微創(chuàng)腫瘤消融治療的迅速發(fā)展,微波,射頻,冷凍,納米刀等微創(chuàng)方法已經(jīng)逐步地被運(yùn)用在各種腫瘤地治療中,微創(chuàng)腫瘤消融也將逐漸成為未來腫瘤治療的主流療法之一。
目前獲得廣泛使用的醫(yī)學(xué)影像引導(dǎo)下的微秒脈沖電場(chǎng)納米刀消融術(shù),是基于可逆電穿孔原理(RE),形成可逆的電穿孔并結(jié)合局部給藥來治療腫瘤組織;或者基于不可逆電穿孔原理(IRE)的治療方法,即通過高壓電場(chǎng)以高頻脈沖的形式作用在腫瘤細(xì)胞膜的磷脂雙分子層上,使得細(xì)胞膜產(chǎn)生永久納米孔,細(xì)胞內(nèi)部與組織液連通,物質(zhì)外流導(dǎo)致細(xì)胞產(chǎn)生不可逆損傷并造成細(xì)胞凋亡,從而快速消融腫瘤細(xì)胞。
在研究微秒脈沖電場(chǎng)(μsPEF)可逆電穿孔和不可逆電穿孔的基礎(chǔ)上,通過進(jìn)一步調(diào)整脈沖電場(chǎng)的參數(shù)還可以調(diào)控并誘導(dǎo)出不同的細(xì)胞響應(yīng)。當(dāng)施加的脈沖電場(chǎng)的脈寬減小到納秒級(jí)別而場(chǎng)強(qiáng)增加至兆伏每米級(jí)別時(shí),細(xì)胞膜表面將不會(huì)發(fā)生明顯的不可逆穿孔現(xiàn)象,但是其細(xì)胞器如細(xì)胞核和線粒體卻可能出現(xiàn)一些功能性的改變,并且誘導(dǎo)細(xì)胞發(fā)生凋亡,從而間接的殺傷腫瘤細(xì)胞。這種脈沖產(chǎn)生的生物電效應(yīng)與不可逆電穿孔有所區(qū)別。納秒脈沖電場(chǎng)(nsPEF)療法通過誘導(dǎo)凋亡的方式治療腫瘤,已經(jīng)成為國(guó)內(nèi)外生物電磁治療腫瘤方面的研究熱點(diǎn)。納秒脈沖技術(shù)相比于微秒脈沖技術(shù)具有更強(qiáng)的延展性與可操作性。
納秒刀是納秒脈沖技術(shù)中必不可少的設(shè)備,由于納秒脈沖技術(shù)對(duì)納秒刀的精準(zhǔn)度要求很高,因此,需要選取合格的納秒刀使用,然而目前尚未提出更優(yōu)的納秒刀校準(zhǔn)方案。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種納秒刀校準(zhǔn)方法及裝置,可以對(duì)納秒刀進(jìn)行校準(zhǔn),以便篩選符合精準(zhǔn)度要求的納秒刀。
第一方面,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種納秒刀校準(zhǔn)方法,該方法包括:利用電場(chǎng)探頭獲取目標(biāo)容器內(nèi)介質(zhì)的電場(chǎng)數(shù)據(jù);所述電場(chǎng)數(shù)據(jù)由所述納秒刀發(fā)送至所述目標(biāo)容器內(nèi);根據(jù)所述電場(chǎng)數(shù)據(jù)生成所述納秒刀的電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù);根據(jù)所述電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù)和預(yù)設(shè)校準(zhǔn)范圍確定納秒刀校準(zhǔn)結(jié)果。
第二方面,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種納秒刀校準(zhǔn)裝置,該裝置包括:獲取模塊,用于利用電場(chǎng)探頭獲取目標(biāo)容器內(nèi)介質(zhì)的電場(chǎng)數(shù)據(jù);所述電場(chǎng)數(shù)據(jù)由所述納秒刀發(fā)送至所述目標(biāo)容器內(nèi);參數(shù)模塊,用于根據(jù)所述電場(chǎng)數(shù)據(jù)生成所述納秒刀的電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù);校準(zhǔn)模塊,用于根據(jù)所述電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù)和預(yù)設(shè)校準(zhǔn)范圍確定納秒刀校準(zhǔn)結(jié)果。
第三方面,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種計(jì)算機(jī)設(shè)備,包括存儲(chǔ)器、處理器及存儲(chǔ)在存儲(chǔ)器上并可在處理器上運(yùn)行的計(jì)算機(jī)程序,所述處理器執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)上述納秒刀校準(zhǔn)方法。
第四方面,本發(fā)明實(shí)施例還提供一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì),所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)存儲(chǔ)有執(zhí)行上述納秒刀校準(zhǔn)方法的計(jì)算機(jī)程序。
本發(fā)明實(shí)施例帶來了以下有益效果:本發(fā)明實(shí)施例提供了一種納秒刀校準(zhǔn)方案,該方案包括:利用電場(chǎng)探頭獲取目標(biāo)容器內(nèi)介質(zhì)的電場(chǎng)數(shù)據(jù);電場(chǎng)數(shù)據(jù)由納秒刀發(fā)送至目標(biāo)容器內(nèi);根據(jù)電場(chǎng)數(shù)據(jù)生成納秒刀的電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù);根據(jù)電場(chǎng)校準(zhǔn)參數(shù)和預(yù)設(shè)校準(zhǔn)范圍確定納秒刀校準(zhǔn)結(jié)果。本發(fā)明實(shí)施例可以對(duì)納秒刀進(jìn)行校準(zhǔn),以便篩選符合精準(zhǔn)度要求的納秒刀。
本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書中闡述,并且,部分地從說明書中變得顯而易見,或者通過實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)在說明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)信息通信研究院,未經(jīng)中國(guó)信息通信研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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