[發(fā)明專利]一種高放射性核純度的68

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202110337422.8
• 申請(qǐng)日: 2021-03-30
• 公開（公告）號(hào): CN113144225A
• 公開（公告）日: 2021-07-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李桂鋌;毛獻(xiàn)金;陳海濤;陸天鴻;王明芳;黃文濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣東回旋醫(yī)藥科技股份有限公司
• 主分類號(hào): A61K51/04
• 分類號(hào): A61K51/04;A61K51/12;C01G15/00;A61K103/00
• 代理公司: 廣州容大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44326
• 代理人: 劉新年

1.一種高放射性核純度的⁶⁸Ga-GaCl₃溶液的制備方法，其特征在于：通過：以⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂溶液為靶材，利用質(zhì)子轟擊⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂液體靶，經(jīng)⁶⁸Zn(p，n)⁶⁸Ga核反應(yīng)獲得。

2.權(quán)利要求1所述的一種高放射性核純度的⁶⁸Ga-GaCl₃溶液的制備方法，其特征在于：所述制備方法具體包括：

步驟一，采用⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂溶液填充靶，利用質(zhì)子轟擊⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂液體靶，經(jīng)⁶⁸Zn(p，n)⁶⁸Ga核反應(yīng)得到⁶⁸Ga-Ga(NO₃)₃/⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂混合液；

步驟二，采用強(qiáng)陽離子交換柱對(duì)步驟一獲得的⁶⁸Ga-Ga(NO₃)₃/⁶⁸Zn-Zn(NO₃)₂混合液進(jìn)行純化，得到⁶⁸Ga-GaCl₃溶液。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高放射性核純度的⁶⁸Ga-GaCl₃溶液的制備方法，其特征在于：所述步驟一的控制參數(shù)為：轟擊束流為35μA～45μA，加速能量為14MeV～16MeV，轟擊時(shí)間小于90分鐘。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種高放射性核純度的⁶⁸Ga-GaCl₃溶液的制備方法，其特征在于：所述步驟二的控制參數(shù)為：所選用的陽離子交換柱以苯乙烯-二乙烯基苯聚合物為基質(zhì)，鍵合苯磺酸作為固定相，以氫離子作為交換平衡離子。以0.5～0.84M的氫溴酸丙酮水溶液作為雜質(zhì)洗脫液，并以3M以上的HCl溶液作為⁶⁸Ga的洗脫液。

5.一種⁶⁸Ga-GaCl₃溶液，其特征在于：是采用權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)所述的制備方法獲得。

6.權(quán)利要求5所述的⁶⁸Ga-GaCl₃溶液在放射性標(biāo)記上的應(yīng)用。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用，其特征在于：所述⁶⁸Ga-GaCl₃溶液在標(biāo)記NOTA-BBN上的應(yīng)用。