[發明專利]一種高純度碘造影劑單體的分離純化方法在審
| 申請號: | 202110330195.6 | 申請日: | 2021-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN113061099A | 公開(公告)日: | 2021-07-02 |
| 發明(設計)人: | 沈偉藝;李森鈞;李華軍;李奎永;何小兵;陳仕洪 | 申請(專利權)人: | 浙江司太立制藥股份有限公司;江西司太立制藥有限公司;上海司太立制藥有限公司 |
| 主分類號: | C07C235/16 | 分類號: | C07C235/16;C07C231/24 |
| 代理公司: | 北京華科聯合專利事務所(普通合伙) 11130 | 代理人: | 王為 |
| 地址: | 317300 浙江省臺州*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 純度 造影 單體 分離 純化 方法 | ||
1.一種高純度碘造影劑單體的分離純化方法,其特征在于,包括采用色譜分離的步驟,其中,所述的色譜分離采用動態軸向加壓色譜柱,且以硅膠或硅膠表面非極性和低極性修飾的鍵合材料為固定相,以極性溶劑或中極性溶劑為洗脫劑,用于從含碘造影劑單體的原料中分離純化制備高純度碘造影劑單體。
2.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,所述碘造影劑單體選自:碘海醇、碘佛醇、碘帕醇、碘普羅胺和碘美普爾。
3.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,硅膠表面非極性和低極性修飾的鍵合材料包括硅膠表面修飾的極性和低極性基團,所述的硅膠表面修飾的非極性和低極性基團包括:十八烷基,十二烷基,癸基,辛基,苯基,甲氧基和二醇基等中的一種或多種,
硅膠或硅膠表面非極性和低極性修飾的鍵合材料的粒徑為5-100μm,孔徑為6-30nm,比表面積為50-800m2/g。
4.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,所述的極性溶劑或中極性溶劑為異丙醇,甲醇,乙醇,乙腈,丙酮,正丁醇,四氫呋喃或水中一種或一種以上,
所述的極性溶劑與中極性溶劑體積比為100:0-0:100。
5.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,所述洗脫液流速為0.02-0.6bv/min。
6.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,在色譜分離步驟之前還包括將含碘造影劑單體原料用初始流動相溶解配制成樣品溶液的步驟,其中,樣品溶液的濃度為10-1000mg/mL,所述的初始流動相與洗脫液相同。
7.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,在色譜分離中上樣量為0.1%-20%。
8.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,所述的含碘造影劑單體原料中碘造影劑單體的含量為20-98%,所述的高純度碘造影劑單體中碘造影劑單體含量大于99%。
9.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,包括以下方法:
上樣溶液:含碘佛醇單體原料液37.5ml,碘佛醇的含量為40%,溶液用0.22μm微孔濾膜過濾,
分離純化:對上樣溶液采用柱系統進行分離純化,上樣溶液全部進樣,其中所述的柱系統中使用十八烷基鍵合硅膠填料,柱規格Φ50×650mm,粒徑10μm,孔徑10nm,填料質量300g,流速0.1bv/min;溶劑為水/甲醇,90:10,檢測波長254nm,從目標峰出峰開始接餾分到峰開始下降基線停止收集,餾分接取過程中每3min接取一次餾分,通過液相餾分分析,并將餾分合并,對合并的餾分進行濃縮、干燥,即得。
10.根據權利要求1所述的分離純化方法,其特征在于,包括以下方法:
上樣溶液:含碘佛醇單體原料液375ml,碘佛醇含量為40%,溶液用0.22μm微孔濾膜過濾,
分離純化:對上樣溶液采用柱系統分離純化,上樣溶液全部進樣,其中所述的柱系統分離純化中使用辛烷基硅膠柱,柱規格Φ80×650mm,粒徑30μm,孔徑12nm,填料質量1500g,溶劑為流速0.05bv/min;溶劑為水/乙醇(95:5),檢測波長254nm,從目標峰出峰開始接餾分到峰開始下降停止收集,餾分接取過程中每4min接取一次餾分,通過液相餾分分析結果合并餾分,對合并的餾分進行濃縮、干燥,即得。
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