[發明專利]硅片制絨產線在審
| 申請號: | 202110324971.1 | 申請日: | 2021-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN112909133A | 公開(公告)日: | 2021-06-04 |
| 發明(設計)人: | 馬琦雯;鄧舜 | 申請(專利權)人: | 常州時創能源股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L31/0236 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 213300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硅片 制絨產線 | ||
本發明公開了一種硅片制絨產線,包括按先后工序依次設置的:鏈式氧化爐,第一鏈式酸洗機,第一插片機,氧化槽,第一清水槽,制絨槽,第二清水槽,第二插片機,第二鏈式酸洗機,鏈式烘干爐。本發明在制絨槽前道設置鏈式氧化爐,可在制絨之前,在鏈式氧化爐中對硅片進行高溫氧化處理,使硅片表面的有機臟污分解,可完全去除硅片表面的有機臟污,可避免因有機臟污殘留在硅片表面而使制絨出現白斑、亮點等問題。
技術領域
本發明涉及硅片制絨產線。
背景技術
光伏發電是太陽能能源利用中最重要的組成部分,它是一種環保的,用之不竭的可再生能源,符合光伏行業高效率、低成本的追求。對于單晶硅電池,表面反射率是影響太陽能電池效率轉換的重要因素之一,為降低表面反射率,制絨工藝起到了重要作用。
制絨的目的為在原生硅片表面產生織構以達到陷光作用,從而提高對太陽光的吸收率,進而提高電池的光電轉換率。目前市面上的制絨工藝仍為傳統的濕法工藝,此法在制絨結束后,硅片上會大概率出現白斑、亮點等問題,這嚴重影響了產線硅片的直通率,降低了產線效率。
發明內容
為解決現有技術的缺陷,本發明提供一種硅片制絨產線,包括按先后工序依次設置的:鏈式氧化爐,第一鏈式酸洗機,氧化槽,第一清水槽,制絨槽。
優選的,還包括位于制絨槽后道、且按先后工序依次設置的:第二清水槽,第二鏈式酸洗機,鏈式烘干爐。
優選的,所述第一鏈式酸洗機包括按先后工序依次設置的:酸洗區,漂洗區。
優選的,所述第一鏈式酸洗機的酸洗區設有帶液滾輪和噴頭,第一鏈式酸洗機的漂洗區設有滾輪和噴頭。
優選的,所述第一鏈式酸洗機和氧化槽之間還設有第一插片機。
優選的,所述第二鏈式酸洗機包括按先后工序依次設置的:酸洗區,漂洗區。
優選的,所述第二鏈式酸洗機的酸洗區設有帶液滾輪和噴頭,第二鏈式酸洗機的漂洗區設有滾輪和噴頭。
優選的,所述第二清水槽和第二鏈式酸洗機之間還設有第二插片機。
優選的,所述鏈式氧化爐內置剛玉軸和加熱燈管。
經研究發現,之所以硅片制絨會出現白斑、亮點等問題,主要是因為硅片表面殘留有有機臟污。本發明在制絨槽前道設置鏈式氧化爐,可在制絨之前,在鏈式氧化爐中對硅片進行高溫氧化處理,使硅片表面的有機臟污分解,可完全去除硅片表面的有機臟污,可避免因有機臟污殘留在硅片表面而使制絨出現白斑、亮點等問題。
但本發明的發明人經研究發現,為了完全去除硅片表面的有機臟污,鏈式氧化爐的溫度較高(300~800℃),處理時間較長(180~250s),高溫氧化處理完成后,硅片表面會形成一層較厚的SiO2層,該SiO2層的厚度不小于2nm(該SiO2層的厚度為2~8nm),該較厚的SiO2層會影響制絨,不利于制絨。為了防止該較厚的SiO2層影響制絨,本發明在制絨槽前道還設置第一鏈式酸洗機,可在第一鏈式酸洗機中對硅片進行酸洗(酸洗采用氫氟酸溶液),使該較厚的SiO2層完全去除。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





