[發(fā)明專利]驅(qū)動(dòng)裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202110324518.0 | 申請(qǐng)日: | 2021-03-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN113472128A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-10-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 牧野隆之;中村圭吾;白石剛士;水谷竜彥;青野真郷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本電產(chǎn)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H02K5/20 | 分類號(hào): | H02K5/20;H02K9/19 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 馬淑香 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 驅(qū)動(dòng) 裝置 | ||
1.一種驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,包括:
馬達(dá),所述馬達(dá)具有能夠以馬達(dá)軸為中心旋轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)子;
外殼,所述外殼將所述馬達(dá)收納在內(nèi)部;
通氣器,所述通氣器設(shè)置于所述外殼;以及
管構(gòu)件,所述管構(gòu)件具有噴射流體的噴射口,并且收納在所述外殼的內(nèi)部,
所述通氣器具有使所述外殼的內(nèi)部與外部相連的通氣孔,
所述管構(gòu)件具有:
管構(gòu)件主體,所述管構(gòu)件主體具有所述噴射口;以及
凸緣部,所述凸緣部從所述管構(gòu)件主體向所述管構(gòu)件主體的外部突出,
所述凸緣部具有:
被固定部,所述被固定部固定于所述外殼;以及
遮蔽部,所述遮蔽部配置于所述外殼的內(nèi)部中的與所述通氣孔相連的部分。
2.如權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述通氣孔具有在所述外殼的內(nèi)部開(kāi)口的內(nèi)側(cè)開(kāi)口部,
所述外殼具有阻擋壁部,所述阻擋壁部面向所述外殼的內(nèi)部中的、所述內(nèi)側(cè)開(kāi)口部開(kāi)口的部分,
所述被固定部固定于所述阻擋壁部。
3.如權(quán)利要求2所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述阻擋壁部具有與所述內(nèi)側(cè)開(kāi)口部隔著間隙相向的相向壁部。
4.如權(quán)利要求2或3所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述遮蔽部的至少一部分將所述外殼的內(nèi)側(cè)面與所述阻擋壁部之間的間隙的至少一部分封閉。
5.如權(quán)利要求4所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述阻擋壁部在規(guī)定方向上延伸,
所述被固定部固定于所述阻擋壁部的所述規(guī)定方向的端部,
所述遮蔽部具有:
從所述被固定部沿與所述規(guī)定方向正交的方向延伸的第一壁部;以及
從所述第一壁部彎曲并在所述規(guī)定方向上延伸的第二壁部,
所述外殼的內(nèi)側(cè)面與所述阻擋壁部之間的間隙包括在所述規(guī)定方向上延伸的延伸間隙部,
所述第二壁部將所述延伸間隙部的至少一部分封閉。
6.如權(quán)利要求5所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述延伸間隙部的寬度隨著朝向所述規(guī)定方向的一側(cè)而變窄,
所述第二壁部的寬度隨著朝向所述規(guī)定方向的一側(cè)而變小。
7.如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述遮蔽部具有:
從所述被固定部延伸的第一壁部;以及
從所述第一壁部彎曲并延伸的第二壁部。
8.如權(quán)利要求5至7中任一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述第二壁部配置成遠(yuǎn)離所述外殼的內(nèi)側(cè)面。
9.如權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述管構(gòu)件主體在所述馬達(dá)軸的軸向上延伸,
所述凸緣部從所述管構(gòu)件主體沿與所述馬達(dá)軸的軸向正交的方向突出。
10.如權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述凸緣部具有鉤掛于所述外殼的止轉(zhuǎn)部。
11.如權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)裝置,其特征在于,
所述通氣孔設(shè)置于所述外殼中的位于鉛垂方向上側(cè)的壁部。
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