[發明專利]石墨基板有效
| 申請號: | 202110324243.0 | 申請日: | 2021-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN113278953B | 公開(公告)日: | 2022-06-17 |
| 發明(設計)人: | 葛永暉;梅勁;劉春楊;陳張笑雄;丁濤 | 申請(專利權)人: | 華燦光電(蘇州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/458 | 分類號: | C23C16/458;H01L21/673;H01L33/00 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 呂耀萍 |
| 地址: | 215600 江蘇省蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 石墨 | ||
1.一種石墨基板,所述石墨基板(100)為圓盤,其特征在于,所述石墨基板(100)的外周壁上具有多個環形凹槽(110a),所述多個環形凹槽(110a)與所述石墨基板(100)同軸,且所述多個環形凹槽(110a)沿所述石墨基板(100)的軸向間隔布置在所述石墨基板(100)的上表面(100a)和下表面(100b)之間,相鄰兩個所述環形凹槽(110a)之間形成一個格柵(110),每個所述格柵(110)均為圓環結構,每個所述環形凹槽(110a)的槽寬均為0.5mm~5mm,每個所述格柵(110)的厚度均為0.5mm~2mm,所述石墨基板(100)包括沿所述石墨基板(100)的軸向間隔布置的n個格柵(110),3≤n≤10。
2.根據權利要求1所述的石墨基板,其特征在于,從所述石墨基板(100)的上表面(100a)至所述石墨基板(100)的下表面(100b)方向,每個所述環形凹槽(110a)的槽寬逐漸增大。
3.根據權利要求1所述的石墨基板,其特征在于,從所述石墨基板(100)的上表面(100a)至所述石墨基板(100)的下表面(100b)方向,每個所述格柵(110)的厚度逐漸增大。
4.根據權利要求1所述的石墨基板,其特征在于,每個所述格柵(110)的外徑與內徑的差值均為50mm~150mm。
5.根據權利要求4所述的石墨基板,其特征在于,從所述石墨基板(100)的上表面(100a)至所述石墨基板(100)的下表面(100b)方向,每個所述格柵(110)的外徑與內徑的差值逐漸增大。
6.根據權利要求1所述的石墨基板,其特征在于,n個所述格柵(110)至所述石墨基板(100)的上表面(100a)的最小距離大于20mm。
7.根據權利要求1所述的石墨基板,其特征在于,n個所述格柵(110)至所述石墨基板(100)的下表面(100b)的最小距離大于10mm。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





