[發明專利]圖案結構制作方法和掩膜結構

有效

• 申請號: 202110323735.8
• 申請日: 2021-03-26
• 公開（公告）號: CN113073292B
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發明（設計）人: 蘇圣勛;劉強;劉亞偉;杜哲
• 申請（專利權）人: 昆山工研院新型平板顯示技術中心有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04;C23C14/14;C23C14/24
• 代理公司: 成都極刻智慧知識產權代理事務所(普通合伙) 51310
• 代理人: 宋江

1.一種圖案結構制作方法，其特征在于，包括：

提供一掩膜結構，其中，所述掩膜結構包括第一基板和金屬抑制結構，所述第一基板包括開口區域和非開口區域，所述開口區域的至少部分區域位于所述金屬抑制結構在所述第一基板所在平面的投影之外，所述非開口區域位于所述金屬抑制結構在所述第一基板所在平面的投影中，且所述金屬抑制結構用于抑制金屬材料的附著；

在所述第一基板遠離所述金屬抑制結構的一側形成第二基板，其中，所述開口區域的至少部分區域位于所述第二基板在所述第一基板所在平面的投影中；

從所述金屬抑制結構所在的一側，通過所述開口區域在所述第二基板靠近所述金屬抑制結構的一側形成金屬結構；

分離出所述第二基板和所述金屬結構，得到目標結構，其中，所述目標結構包括所述第二基板和所述金屬結構，所述金屬結構作為圖案結構；

其中，在分離出所述第二基板和所述金屬結構之后，所述方法還包括：

在所述金屬抑制結構遠離所述第一基板的一側形成金屬附著結構，其中，所述開口區域的至少部分區域位于所述金屬附著結構在所述第一基板所在平面的投影之外，所述非開口區域位于所述金屬附著結構在所述第一基板所在平面的投影中，且所述金屬附著結構具有易于在金屬材料上附著的屬性；

在所述金屬附著結構遠離所述金屬抑制結構的一側形成新的金屬抑制結構，其中，所述開口區域的至少部分區域位于所述新的金屬抑制結構在所述第一基板所在平面的投影之外，所述非開口區域位于所述新的金屬抑制結構在所述第一基板所在平面的投影中，所述新的金屬抑制結構用于抑制金屬材料的附著；

在所述第一基板遠離所述金屬抑制結構的一側形成新的第二基板，其中，所述開口區域的至少部分區域位于所述新的第二基板在所述第一基板所在平面的投影中；

從所述新的金屬抑制結構所在的一側，通過所述開口區域在所述新的第二基板靠近所述新的金屬抑制結構的一側形成新的金屬結構；

分離出所述新的第二基板和所述新的金屬結構，得到新的目標結構，其中，所述新的目標結構包括所述新的第二基板和所述新的金屬結構，所述新的金屬結構作為新的圖案結構。

2.根據權利要求1所述的圖案結構制作方法，其特征在于，在執行所述在所述金屬抑制結構遠離所述第一基板的一側形成金屬附著結構的步驟之前，所述方法還包括：

確定所述金屬抑制結構上的金屬材料沉積量是否大于沉積量閾值；

若所述金屬材料沉積量大于所述沉積量閾值，再執行所述在所述金屬抑制結構遠離所述第一基板的一側形成金屬附著結構的步驟。

3.根據權利要求1所述的圖案結構制作方法，其特征在于，所述金屬附著結構的厚度大于或等于1nm，所述金屬附著結構的材料為有機材料，其中，所述有機材料至少包括己內酰胺材料和有機發光材料中的至少一種。

4.根據權利要求3所述的圖案結構制作方法，其特征在于，所述金屬結構為發光單元的金屬陰極結構，所述發光單元還包括發光層結構，所述發光層結構基于有機發光材料在蒸鍍腔室內蒸鍍形成；

其中，在所述蒸鍍腔室內蒸鍍形成所述發光層結構之后，基于所述有機發光材料的蒸鍍源蒸鍍形成所述金屬附著結構。

5.根據權利要求4所述的圖案結構制作方法，其特征在于，所述金屬抑制結構的材料為有機材料，所述蒸鍍腔室內還具有所述金屬抑制結構對應有機材料的蒸鍍源；

其中，所述金屬抑制結構和所述金屬附著結構通過有機材料蒸鍍工藝在所述蒸鍍腔室內分別基于對應的蒸鍍源蒸鍍形成。

6.根據權利要求1-5任意一項所述的圖案結構制作方法，其特征在于，所述金屬抑制結構的厚度大于或等于2nm，所述金屬抑制結構的材料至少包括芳香類化合物。