[發(fā)明專利]用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法及其裝備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110317294.0 | 申請日: | 2021-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN113368282B | 公開(公告)日: | 2023-08-08 |
| 發(fā)明(設計)人: | 盧紅梅;韓思遠;李彥;李大治;何娟;張昊婧;祝賀宇;高藝歌 | 申請(專利權)人: | 鄭州圣華藥物食品技術開發(fā)有限公司 |
| 主分類號: | A61L2/20 | 分類號: | A61L2/20;A61L2/26;A61L101/10;A61L101/22 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 450044 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用氙準 分子 光源 制備 臭氧 脈動 消毒 方法 及其 裝備 | ||
1.用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是消毒和核酸清除的方法是用氙準分子光源輻射空氣制備的氙準分子臭氧氣體與含有過氧化氫的混合氣體以正負氣壓脈動交替地處理物料的表面進行消毒和核酸清除,用氙準分子光源輻射空氣制備的氙準分子臭氧氣體與含有過氧化氫的混合氣體交替地處理物料的表面時的步驟是:
I)先用氙準分子光源輻射空氣制備的氙準分子臭氧氣體處理物料的表面,然后
II)用濃度為20%~60%(V/V)的液相過氧化氫處理表面,或/和用氣相過氧化氫處理物料的表面,氣相過氧化氫在過氧化氫的混合氣體的濃度應大于20%,
III)兩種消毒劑交替處理的次數(shù)≥1次;
臭氧與過氧化氫接觸物料表面的時間每次應≥1min。
2.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是裝備的核心實質(zhì)是在一個密閉的空間內(nèi)對物料的表面進行消毒和核酸清除,其密閉空間首選是金屬容器,金屬容器的內(nèi)膽的材料是304或316不銹鋼材料。
3.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是在向密閉的空間注入臭氧和過氧化氫時,可采用負壓或/和正壓或/和正壓負壓交替地注入方式注入臭氧和過氧化氫,正壓應控制在+1kPa至+1000kPa之間,并維持時間≥5min;負壓的壓力應控制在-1kPa至-1000kPa之間,并維持時間≥1min。
4.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是氙準分子光源制備臭氧所需要的氣源為空氣氣源或/和純度≥50%以上的氧氣。
5.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是氙準分子光源制備臭氧所需要的氣源為純度大于85%以上的氧氣時,采用PSA制氧機或氧氣鋼瓶。
6.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是過氧化氫氣體是采用30%以上的過氧化氫溶液,或/和采用過氧化氫銀離子螯合消毒劑,或/和采用過氧化氫與過氧乙酸的混合型消毒劑、或/和過氧化氫磷酸鈉復方消毒劑、或/和過氧化氫戊二醛復方消毒劑。
7.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是汽化過氧化氫的方法可采用蒸汽法和/或霧化法。
8.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是密閉空間的負壓和正壓的耐壓均在10kPa-10000kPa之間。
9.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是密閉空間內(nèi)的溫度控制在0℃至60℃之間,相對濕度控制在20%至99%之間。
10.根據(jù)權利要求1所述的用氙準分子光源制備臭氧的脈動消毒方法,其特征是消毒后的殘余臭氧和過氧化氫經(jīng)過降解材料降解后排泄,使用的降解材料是二氧化錳降解過濾材料。
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